ررسی پلاسمای آرگون - نیتروژن در لایه نشانی پوشش های تانتالوم نیتراید تولید شده به روش کندوپاش مغناطیسی DC

Publish Year: 1393
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 226

متن کامل این Paper منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل Paper (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.

  • Certificate
  • من نویسنده این مقاله هستم

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این Paper:

شناسه ملی سند علمی:

IPC93_404

تاریخ نمایه سازی: 5 آذر 1398

Abstract:

مجموعه ای از لایه های تانتالوم نیتراید در نسبت های مختلف نیتروژن موجود در پلاسمای کندوپاش لایه نشانی شدند. بررسی های حاصل از طیف سنجی تابش اپتیکی تخلیه ی نورانی، از پلاسمای مخلوط آرگون و نیتروژن در درصدهای مختلف نیتروژن موجود در محفظه لایه نشانی، نشان می دهند که با افزایش درصد نیتروژن، یونیزاسیون نسبی آرگون و تفکیک نسبی نیتروژن افزایش می یابد درحالیکه یونیزاسیون نسبی نیتروژن کاهش می یابد. نتایج پراش پرتو ایکس از لایه های ایجاد شده در نسبت های گازی نیتروژن % 10 و %20 نشان دادند که در نسبت گازی نیتروژن %10 ساختار غیر استوکیومتری Ta6N2.57 هگزاگونال تشکیل می شود درحالیکه در نسبت گازی نیتروژن%20، ساختار استوکیومتری TaN مکعبی تشکیل می شود. نتایج حاصل از بررسی ضخامت نشان دادند که ضخامت لایه ها با افزایش میزان نیتروژن کاهش می یابد. نتایج حاصل از سختی سنجی نیز نشان دادند که در نسبت گازی نیتروژن %10 سختی لایه بیشینه است.

Authors

سعید گلشن خواص

دانشکده فیزیک دانشگاه تهران، انتهای خیابان کارگر شمالی، تهران

سعید قاسمی

پژوهشکده لیزر و پلاسما دانشگاه شهید بهشتی، اوین، تهران

عطااله کوهیان

دانشکده فیزیک دانشگاه تهران، انتهای خیابان کارگر شمالی، تهران

حمیدرضا قمی

پژوهشکده لیزر و پلاسما دانشگاه شهید بهشتی، اوین، تهران