CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)

تاثیر ولتاژ و محلول اسیدی بر روی زبری سطح آرایه های اکسید نانومتخلخل آلومینیوم آندی منظم با استفاده از بررسی میکروسکوپ نیروی اتمی

عنوان مقاله: تاثیر ولتاژ و محلول اسیدی بر روی زبری سطح آرایه های اکسید نانومتخلخل آلومینیوم آندی منظم با استفاده از بررسی میکروسکوپ نیروی اتمی
شناسه ملی مقاله: ICME11_252
منتشر شده در یازدهمین کنفرانس ملی مهندسی ساخت و تولید ایران در سال 1389
مشخصات نویسندگان مقاله:

سیدمجید پیغمبری ستاری - دانشجوی کارشناسی ارشد، دانشکده مهندسی مواد، دانشگاه صنعتی سهند نبری
فرزاد نصیرپوری - استادیار، دانشکده مهندسی مواد، دانشگاه صنعتی سهند نبریز

خلاصه مقاله:
آرایه های منظم اکسید آلومینیم آندی از طریق آندایزینگ دو مرحله ای آلومینیم در الکترولیت های اسیدی و در شرایط مختلفی از ولتاژ و دما تهیه می شوند. این آرایه ها متشکل از دولایه پیوسته و متخلخل با ساختاری شامل شش وجهی های منظم و با حفراتی نانومتری در داخل آن، کاربردهای وسیعی را به عنوان قالب یا تمپلیت در ساخت نانومواد نظیر نانوسیم و یا به عنوان کاتالسیت دارا می باشند. با این وجود در خصوص بررسی زبری سطحی لایه های اکسیدی منظم مطالعات مدون و وسیعی صورت نگرفته است. در این تحقیق، لایه های اکسیدی آلومینیم در سه نوع اسید مختلف شامل اسید سولفوریک، اسید اگزالیک و اسید فسفریک تحت ولتاژهای ثابت به ترتیب 18 ، 40 و 160 ولت در دمای صفر درجه سانتی گراد به روش دو مرحله ای آندایز گردیده و توپوگرافی سطحی این نمونه ها با استفاده از میکروسکوپ نیروی اتمیAFM) و میکروسکوپ الکترونی روبشی مورد بررسی قرار گرفته اند. نتایج نشان می دهند که با افزایش ولتاژ در اسید های مختلف میزان زبری سطح بصورت چشمگیری افزایش می یابد. این تغییرات وابسته به تغییر اندازه قطر حفرات بوده و بطور مستقیم با آن افزایش می یابد.

کلمات کلیدی:
آرایه های منظم اکسیدآلومینیوم- آندایزینگ- حفرات نانومتری- زبری- میکروسکوپ نیروی اتمی

صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/97965/