عابد شمالی - دانشجوی دوره کارشناسی ارشد مهندسی شیمی، دانشگاه آزاد اسلامی واحد علوم و تحقیقات بوشهر
مهرداد منطقیان - هیئت علمی مهندسی شیمی، دانشگاه تربیت مدرس تهران

این مطالعه با هدف شناسایی تاثیر ماده فعال سطحی بر زمان القا و پایداری نانوذرات اگزالات سدیم به روش کریستالیزاسیون واکنشی صورت گرفته شد. زمان القا جهت هسته زایی نانوذرات اگزالات سدیم در دمای 25 °C در عدم حضور ماده فعال سطحی سدیم دودسیل سولفات و در حضور آن با استفاده از ضدحلال هیدرواکسید سدیم اندازه گیری شد. با استفاده از دستگاه TEM از نانوذرات اگزالات سدیم عکس گرفته شد که دامنه تغییرات اندازه نانوذارت از 5 nm تا 18 متغیر شد. نتایج حاصله مطابق با پیش بینی نظریه کلاسیک هسته زایی بود. دامنه تغییرات کشش سطحی نانوذرات اگزالات سدیم از 5/73 (mj/m2) تا 11/40 متغیر شد. دامنه تغییرات توان هسته زایی از 2/21 (#/s.m3) تا 2/23 متغیر شد. نتایج نشان داد که در حضور سورفکتانت SDS با افزایش فوق اشباع، زمان القا کاهش مییابد.

کریستالیزاسیون واکنشی، هسته زایی اولیه و ثانویه، زمان القا، ماده فعال سطحی، SDS، اگزالات سدیم