تاثیر مقادیر ولتاژ بایاس بر روی پوشش اکسید آلومینیوم به روش تبخیر واکنشی فعال شده برروی فولاد ابزار T4

پوشش اکسید آلومینیوم (آلومینا) بدلیل دارا بودن خواص متنوع مانند سختی بالا، مقاومت به خوردگی و سایش و داشتن خواص نوری خوب بطور گستردهای در زمینه های مختلف بخصوص صنایع الکترونیکی و تزئینی مورد استفاده قرار گرفته است. در این تحقیق هدف ایجاد پوشش آلومینا بر روی فولاد ابزار T4 بوسیله فرآیند تبخیر واکنشی فعال شده و سپس بررسی مقادیر ولتاژ بایاس روی پوشش میباشد. بدین منظور نمونه ها در محیط پلاسما تحت زمان اکسیژندهی 45 دقیقه، دمای زیرلایه С˚800 و مقادیر ولتاژ بایاس0، 50 و 100 ولت توسط فرآیند تبخیر واکنشی فعال شده پوشش داده شدند. در نهایت جهت بررسی ساختار کریستالی توسط آنالیز XRD، ریزساختار و مورفولوژی لایه تشکیل شده توسط آنالیز SEM، جهت بررسی زبری پوشش از آنالیز AFM و همچنین جهت بررسی سختی سنجی پوشش از روش سختی سنجی ویکرز مورد استفاده قرار گرفت. نتایج نشان داد که هر چه ولتاژ بایاس زیرلایه بیشترباشد زبری پوشش بیشتر می شود. همچنین نمونه هایی که باردار شده اند (Biased) سختی بالاتری نسبت به نمونه هایی که باردار نشده اندرا دارا می باشند که این مطلب می تواند ناشی از متراکم تر شدن لایه ی تشکیل شده به علت جذب بیشتر یون های اکسیژن موجود در محیط پلاسما باشد.