لایه نشانی اکسید سیلیکون با استفاده از پلاسمای فشار جو DBD
Publish place: Fifth International Conference on Technology Development in Iranian Electrical Engineering
Publish Year: 1400
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 784
This Paper With 12 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
ECMCONF05_031
تاریخ نمایه سازی: 29 خرداد 1400
Abstract:
در طی یک دهه گذشته منابع پلاسمای فشار جو، بسیار مورد توجه بوده تا جایی که استفاده از آن به عنوان یک ابزار لازم در صنعت پزشکی، صنایع چوبی، صنایع نساجی و... در تمیز کردن سطح، استریل کردن و ایجاد لایه محافظتی مورد مطالعه قرار گرفته است. اخیرا کاربردهای ایجاد رسوب دی اکسید سیلیکون با پلاسما به طور گسترده ای بررسی شده است. در این پروژه یک سیستم برای لایه نشانی اکسید سیلیکون به کمک پلاسما در فشار جو (روش DBD به معنای تخلیه از درون سد دی الکتریک ) ساخته و تست شده است. برای تولید اکسید سیلیکون از TEOS استفاده شده است مزیت اصلی سیستم ساخته شده نسبت به سیستم هایی که در قبل وجود داشتند استفاده از پلاسمای DBD بوده است که باعث ارزانی، سهولت و کاهش وزن سیستم می شود. به کمک این سیستم لایه های مختلفی با ضخامت های مختلف که باعث ارزانی، سهولت و کاهش وزن سیستم می شود. به کمک این سیستم لایه های مختلفی با ضخامت های مختلف SEM و نیز روش خازنی و غیره تست شده است
Keywords:
لایه نشانی دی اکسید سیلیکون , تترا اکسید سیلان , طراحی سیستم لایه نشانی , پلاسمای تخلیه دی الکتریک DBD , منبع تغذیه ولتاژ بالا
Authors
محمد جواد شریفی
دانشیار دانشگاه شهید بهشتی
حسین عظمتی
دانشجوی کارشناسی ارشد دانشگاه شهید بهشتی