بررسی پارامتر های مختلف در پرداختکاری با ذرات سایندهAIO۲ و SiC با استفاده از میدان مغناطیسی در مقیاس نانو

(NMAF)،روشی جدید برای پرداختکاری سطح با زبری در حد نانوبصورت فرآیند مکانیکی بوده و از طریق سایش پودر ذرات ساینده به عنوان ابزار، انجام می گیرد. نیروی مورد نیاز برای حرکت ذرات ساینده توسط میدان مغناطیسی که خود دارای حرکت نسبی با قطعهکار است تامین میشود این روش برای پرداخت قطعات فلزی غیرمغناطیسی و یا قطعات غیر فلزی. قابل استفاده است از ویژگی های خاص این روش کاهش تنش های حرارتی به قطعه کار و .نداشتن محدودیت در پرداختکاری سطوحی از قطعه است که به دلیل شکل هندسی، توانایی انجام کار ابزار های معمول برروی آنها دشوار است مانند پرداختکاری سوپر آلیاژها و فلزات سخت و همچنین برای سطوحی .با فرم های خاص که نمی توان با روشهای دیگر به میزان صافی سطح قابل قبول رسید. دراین مقاله با استفاده از مکانیزم نانو پرداختکاری، پرداختکاری سطوح خارجی استوانه ایی از جنس سوپرآلیاژ اینکونل بررسی شده ، به صورتیکه کیفیت سطح در مقیاس نانو ارتقاء مییابد. برای ایجاد میدان مغناطسیی از آهنرباهای متغییر با قابلیت تنظیم شدت جریان میدان مغناطیسی استفاده شده است.در آزمایشات انجام شده افزایش سرعت دورانی، فاصله ی کاری آهنربا از سطح قطعه کار ،مقداراستفاده از ذرات ساینده از عوامل تاثیر گذار و مورد بررسی هستند. در این تحقیق از ذرات ساینده آلومینیوم اکسید و سیلیکونکارباید و تلفیق آنها استفاده شده است.