کاربرد تجهیزات تابشی Far-UVC در حفظ سلامت و ضد عفونی کردن محیط

در این مقاله، یکی از کاربردهای تجاری و با اهمیت تخلیه الکتریکی و خصوصا تخلیه سدالکتریک برای تولید مولکول های اکسی پلکس با استفاده ازلامب های اکسایمر Kr-Cl و تابش فرابنفش ۲۲۲nm معرفی می شود. باوجود آنکه بیش از یک قرن از کاربرد تاش فرابنفش در ۲۵۴nm درضد عفونی و گندزدایی محیط و ا دوات پزشکی می گذرد، با این حال، به دلیل آسیب زایی این تابش به بافت های انسانی، امکان بهره مندی از آن ها درمکان های عمومی وجود ندارد. این در حالی است که پژوهش ها نشان می دهند که تابش فرابنفش ۲۲۲nm ضمن برخورداری از ویژگی های ضدعفونی-کنندگی لامپ های فرابنفش معمول, با رعایت حد دز و استفاده از فیلترسازی، برای بافت های انسانی آسیبی ندارند. با اوج گیری ویروس کرونا طیسال های اخیر تحقیقات درزمینه استفاده از تابش فرابنفش ۲۲۲nm با استفاده از لامپ های اکسیمر در مکان های عمومی مورد توجه پژوهشگرانزیادی قرار گرفته است. تحقیقات نشان می دهند که درصورت استفاده از این ابزار تابش با سطح دوز خیلی کم در حد (۲nj/cm(۲ امکان کاهشچشمگیر ویروس هوابرد و نیز ضدعفونی سطوح وجود دارد. در این پژوهش، مشخصات تابش فرابنفش ۲۲۲nm بررسی شده و ابزار تولید و اساسعملکرد آن معرفی می شود.

Keywords:

اکسیمر ۲۲۲nm , ضدعفونی ویروس های انسانی هوابرد