شبیه سازی و بهینه سازی ترانزیستور اثر میدانی فلز اکسید نیمه رسانا از نوع NMOS
Publish place: International Conference on New Researches and Technologies in Electrical Engineering (ICNRTEE)
Publish Year: 1401
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 280
This Paper With 5 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
ICNRTEE01_048
تاریخ نمایه سازی: 11 اردیبهشت 1402
Abstract:
در این مقاله به شبیه سازی و بهینه سازی ترانزیستور اثر میدانی فلز اکسید نیمه رسانا پرداخته می.شود در ابتدا مراحل شبیه سازی در سیلواکو بیان میشود. سپس منحنی VGS - ID) این افزاره را استخراج میشود پس از آن به تغییرات دما در فرآیند ایجاد اکسید گیت مورد بررسی قرار میگیرد منحنی ID) - VGS) بر حسب این تغییرات دما را در پروسه ایجاد اکسید گیت را به دست می آوریم. تغییرات انرژی در فرآیند دوپینگ ایجاد کانال P این افزاره مورد بررسی قرار میگیرد و منحنی VGS - ID) بر حسب این تغییرات انرژی را نیز به دست خواهیم آورد و در نهایت تغییرات انرژی در کاشت یونی مورد بررسی قرار خواهد گرفت. پس از آن با توجه به نتایج به دست آمده یک ترانزیستور بهینه شده نسبت به شبیه سازی اولیه را طراحی و مورد بررسی قرار خواهد گرفت تمام مراحل شبیه سازی با استفاده از نرم افزار سیلواکو انجاممیشود.
Keywords:
Authors
مصیب شهابی
ایران_یزد_دانشگاه آزاد اسلامی واحد یزد-گروه برق
محمدرضا شایسته
ایران_یزد_دانشگاه آزاد اسلامی واحد یزد-گروه برق