سیویلیکا را در شبکه های اجتماعی دنبال نمایید.

اصلاح سطحی غشاهای الیاف توخالی پلی سولفون بروش پوشش دهی پلی دی متیل سیلوکسان جهت جذب دی اکسید کربن در تماس دهنده غشایی گاز - مایع

Publish Year: 1402
Type: Conference paper
Language: Persian
View: 266

This Paper With 12 Page And PDF Format Ready To Download

Export:

Link to this Paper:

Document National Code:

IRCCE11_043

Index date: 12 August 2023

اصلاح سطحی غشاهای الیاف توخالی پلی سولفون بروش پوشش دهی پلی دی متیل سیلوکسان جهت جذب دی اکسید کربن در تماس دهنده غشایی گاز - مایع abstract

در این پژوهش غشاهای ریز متخلخل الیاف توخالی پلی سولفون PSF بروش جداسازی فازی تولید شده اند. سطح خارجی غشاها بروش پوشش دهی غوطه وری با پلی دیمتل سیلوکسان PDMS اصلاح شده است. ساختار و کارایی غشاهای تولید شده برای جذب CO۲ در تماس دهنده غشایی بررسی شده است. از گلیسرول بعنوان غیر حلال در محلول پلیمری و افزاینده سرعت جداسازی فازس برای تولید غشاهای بسیار متخلخل استفاده شده است. غشاها با آزمون های میکروسکوپ الکترونی روبشی SEM تراوایی نتیروژن، فشار مرطوب شدن و زاویه تماس سطحی مشخصه یابی شده اند. تصاویر SEM نشان داد که غشاها دارای ساختار تقریبا بندانگشتی شکل اند. نتایج تست تراوایی گازی نشان داد غشاهای پوشش داده شده تراوایی نیتروژن کمتری دارند. غشای اصلاح شده با PDMS دارای اندازه متوسط حفره ۹ نانومتر و تخلخل سطحی m-۱ ۳۵ می باشند. آبگریزی سطحی غشای اصلاح شده بسیار افزایش یافته که زاویه تماس سطحی تقریبا ۱۱۸ درجه را نشان می دهد. بدلیل کوچک تر بودن حفره های سطحی و افزایش زاویه تماس، غشاهای اصلاح شده میزان فشار مرطوب شدن ۸ بار نشان دادند. نتایج تست جذب CO با اب در شرایط عملیاتی یکسان نشان داد که شار جذب غشاهای پلی سولفون اصلاح شده نسبت به غشاهای پلی وینیلیدن فلوارید PVDF تجاری بیشتر است غشای اصلاح شده دارای شار جذب تقریبی (فرمول درمتن اصلی مقاله) در سرعت مایع m/s ۰.۰۳ می باشد.

اصلاح سطحی غشاهای الیاف توخالی پلی سولفون بروش پوشش دهی پلی دی متیل سیلوکسان جهت جذب دی اکسید کربن در تماس دهنده غشایی گاز - مایع Keywords:

غشای الیاف توخالی , پلی سولفون , پوشش دهی غوطه وری , پلی دی متیل سلوکسان , جذب دی اکسید کربن , تماس دهنده غشایی

اصلاح سطحی غشاهای الیاف توخالی پلی سولفون بروش پوشش دهی پلی دی متیل سیلوکسان جهت جذب دی اکسید کربن در تماس دهنده غشایی گاز - مایع authors

سمیرا فتاحی میلاسی

کارشناسی ارشد گروه مهندسی شیمی واحد گچساران دانشگاه آزاد اسلامی گچساران ایران

امیر منصوری زاده

استادیار گروه مهندسی شیمی واحد گچساران دانشگاه آزاد اسلامی ایران

مقاله فارسی "اصلاح سطحی غشاهای الیاف توخالی پلی سولفون بروش پوشش دهی پلی دی متیل سیلوکسان جهت جذب دی اکسید کربن در تماس دهنده غشایی گاز - مایع" توسط سمیرا فتاحی میلاسی، کارشناسی ارشد گروه مهندسی شیمی واحد گچساران دانشگاه آزاد اسلامی گچساران ایران؛ امیر منصوری زاده، استادیار گروه مهندسی شیمی واحد گچساران دانشگاه آزاد اسلامی ایران نوشته شده و در سال 1402 پس از تایید کمیته علمی یازدهمین کنفرانس بین المللی شیمی، مهندسی شیمی و نفت پذیرفته شده است. کلمات کلیدی استفاده شده در این مقاله غشای الیاف توخالی، پلی سولفون، پوشش دهی غوطه وری، پلی دی متیل سلوکسان، جذب دی اکسید کربن، تماس دهنده غشایی هستند. این مقاله در تاریخ 21 مرداد 1402 توسط سیویلیکا نمایه سازی و منتشر شده است و تاکنون 266 بار صفحه این مقاله مشاهده شده است. در چکیده این مقاله اشاره شده است که در این پژوهش غشاهای ریز متخلخل الیاف توخالی پلی سولفون PSF بروش جداسازی فازی تولید شده اند. سطح خارجی غشاها بروش پوشش دهی غوطه وری با پلی دیمتل سیلوکسان PDMS اصلاح شده است. ساختار و کارایی غشاهای تولید شده برای جذب CO۲ در تماس دهنده غشایی بررسی شده است. از گلیسرول بعنوان غیر حلال در محلول پلیمری و افزاینده سرعت ... . برای دانلود فایل کامل مقاله اصلاح سطحی غشاهای الیاف توخالی پلی سولفون بروش پوشش دهی پلی دی متیل سیلوکسان جهت جذب دی اکسید کربن در تماس دهنده غشایی گاز - مایع با 12 صفحه به فرمت PDF، میتوانید از طریق بخش "دانلود فایل کامل" اقدام نمایید.