سنتز فوتوکاتالیست تنگستات نیکل نانو ساختار از روش پلیول

در این تحقیق نانو بلور های NiWO۴ در محیط پلیمری و در دمای پایین برای اولین بار سنتز شدند. واکنش تشکیل بین نیکل کلرید و تنگستات سدیم در دمای ۱۸۰ درجه سانتیگراد و به مدت ۱۰ ساعت در اتیلن گلیکول انجام شد. ذرات بلورینه شده تنگستات نیکل پس از عملیات حرارتی در ۵۰۰ درجه سانتیگراد به مدت ۵ ساعت حاصل گردیدند. آنالیز حرارتی (TG/DTA) برای بررسی رفتار این ماده تحت حرارت انجام شد. نتایج آنالیز پراش اشعه ایکس (XRD) نیز نشان داد که بهترین دمای کلسیناسیون ۵۰۰ درجه سانتیگراد بوده و با استفاده از میکروسکوپ الکترونی عبوری (TEM) و روبشی (SEM) تصاویر نانو ذرات تنگستات نیکل تهیه شدند. از روش ریتولد، اندازه متوسط بلورهای NiWO۴ ۱۷ نانو متر محاسبه گردید و متوسط اندازه ذرات ۵۰ نانو متر نیز از تصاویر TEM تخمین زده شد. بیشترین سطح ویژه برای نمونه عملیات حرارتی شده در ۱۰۰ درجه سانتیگراد با استفاده از BET، ۱۰۵ متر مربع بر گرم بدست آمد. مطالعه جذب طیف نوری در محدوده طول موج ۳۵۰ تا۵۰۰ نانو متر نشان داد که گاف انرژی این ماده ۴۱/۳ الکترون ولت و ۲۵/۳ الکترون ولت به ترتیب برای قبل و بعد از کلسینه شدن است. جهت بررسی خواص فوتو کاتالیستی از متیلن بلو استفاده گردید و محلول در معرض تابش نور UV با توان ۱۲ وات به مدت ۱، ۲، ۳ و ۴ ساعت قرار گرفت. خاصیت رنگ زدایی و فوتوکاتالیستی این ماده مطلوب بود.

Keywords:

نانو بلور , گاف انرژی , فوتوکاتالیست