بررسی پارامترهای موثر بر ساخت لایه مزومتخلخل اکسیدتیتانیوم مورد استفاده در سلول خورشیدی پروسکایتی پایه کربنی

سلولهای خورشیدی پروسکایتی یکی از جدیدترین سلولهای نسل سوم نانوساختار میباشند، که با داشتن راندمانی بالا در زمان کوتاهی که از ورودشان میگذرد، امید بخش کاربردی گسترده در تولید انرژی خورشیدی در آیندهای نزدیک میباشند. یکی از اجزاء اصلی این سلولها که تاثیر بسزایی در انتقال الکترونها و متعاقبا کارایی و پایداری آنها دارد، لایهی مزو متخلخل اکسید تیتانیوم می باشد. در این مقاله جهت ساخت لایه مزو متخلخل، از پیش مادهی خمیر نانوذرات اکسید تیتانیوم رقیق شده با حلال اتانول و جهت لایه نشانی از روش پوششدهی چرخشی استفاده گردید. پارامترهای مورد بررسی شامل میزان اعمال پیش ماده ۱۰۰ l ) و (۷۰۰ و همچنین اعمال تک مرحلهای و چند مرحلهای بود. جهت مشخصه یابی پوششهای اعمال شده از میکروسکوپ الکترونی روبشی گسیل میدانی استفاده گردید. تحت شرایط بهینه بدست آمده در این مقاله، پوشش بسیار متخلخل، یکنواخت و عاری از ترک با ضخامت ۴۰۰ nm بدست آمد. در نهایت نیز با استفاده از پوششهای مزو متخلخل ساخته شده و اعمال لایه پروسکایت (PbI۲+CH۳NH۳PbI۳) و کربن هادی، سلول خورشیدی پروسکایتی با راندمان % ۳/۱ و بسیار پایدار ساخته شد. در میان سلولهای پروسکایتی پایه کربنی (با حداکثر راندمان حدود (%۸ راندمان مناسبی بوده و تحقیق جهت افزایش راندمان در حال انجام میباشد.