سنتز فتوکاتالیست مغناطیسی BiFeO۳ بر پایه دیاتومه جهت تخریب نوری آلاینده پساب آلی

در سالهای اخیر ، مهار نوترکیبی الکترون و حفره تولید شده توسط نور به عنوان یک پیشرفت برای بهبود تخریب فتوکاتالیستی آلایندهها در نظر گرفته شده ا ست . در این مطالعه ، با موفقیت نانوذرات BiFeO۳ روی میکروذرات دی سک مانند دیاتومه بارگذاری شد. بدین منظور، در ابتدا BFO با ا ستفاده از روش ر سوبی سنتز شد و سپس از طریق روش تلقیح و در حضور امواج اولتراسوند نانوکامپوزیت BiFeO۳/Diatom سنتز شد. تحت تاثیر بارگذاری نیمه رسانا روی پایه متخلخل ، میکروساختار فتوکاتالیست از طریق ارتباط میان پایه و نیمه رسانا BFO تشکیل شده بهبود می یابد که می تواند مساحت سطح را افزایش دهد و در نتیجه جذب نور و جذب آلاینده را افزایش دهد، مقدار باندگپ فتوکاتالیست را کاهش می دهد و نرخ نوترکیبی جفت های الکترون-حفره فتوتولید شده به طور قابل توجهی کاهش می یابد که منجر به افزایش فعالیت فتوکاتالیستی می شود. آزمایشات فتوکاتالیستی نشان می دهد که راندمان تخریب کامپوزیت BiFeO۳/Diatom برایتتراسایکلین تقریبا ۲ برابر بیشتر از BFO خالص است . این مطالعه یک راهنمای مفیدی برای طراحی فتوکاتالیست بسیار کارآمد و قابل بازیابی مغناطیسی ارائه می کند و ثابت شد که نانوکامپوزیت یک فتوکاتالیست امیدوارکننده برای حذف مولکولهای دارویی است .

Keywords:

تخریب فتوکاتالیستی , تتراسایکلین , پایه متخلخل دیاتومه , نیمه رسانا BiFeO۳