مقایسه خواص تشعشعی نانوپوششها درساختارهای چندلایه ای درطیف مرئی به روش غیرهمدوس
Publish place: The first national conference on building new facilities
Publish Year: 1391
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 687
This Paper With 8 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
NCNBI01_019
تاریخ نمایه سازی: 28 تیر 1392
Abstract:
اطلاع از خواص تشعشعی لایه های بسیار نازک متناوب نیمه هادیها، کاربردهای زیادی در صنایع میکروالکترونیک، تبدیل انرژی و نانوفناوری دارند. در این مقاله زیر لایه سیلیکون با دی اکسید سیلیکون و نیترید سیلیکون پوشش داده شده است. ضخامت زیر لایه سیلیکون 500 و دما ºC25 می باشد. در این کار محدوده طول موج مرئی مورد بررسی قرار گرفته است و از فرمولاسیون غیر چسبنده و سیلیکون تقویت شده استفاده شده است. ضخامت پوشش دی اکسید سیلیکون و نیترید سیلیکون 400 می باشد. نتایج نشان داد که ضریب صدور میانگین پوشش نیترید سیلیکون از ضریب صدور میانگین دی اکسید سیلیکون کوچکتر می باشد. و نیز ضریب بازتاب میانگین برای پوشش نیترید سیلیکون از ضریب بازتاب میانگین پوشش دی اکسید سیلیکون بیشتر است. که این امر برای هر دو نوع یون دهنده و گیرنده مشابه است. ولی یون دهنده دارای ضریب صدور بزرگتر و ضریب بازتاب کوچکتر از یون گیرنده می باشد.
Keywords:
Authors
سیدامیرعباس علومی
استادیاردانشگاه آزادیزد
محمد امیدپناه
مربی دانشگاه فنی حرفه ای یزد
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :