اثر مورفولوژی لایه های سطحی، بر رفتار پسیو شدن آندهای ریختگی مس در طی فرآیند پالایش الکتریکی

پسیو شدن آندهای مس تجارتی و مس خالص با استفاده از روش های الکتروشیمیایی مورد مطالعه قرار گرفته است. نتایج حاصل از تست کرونوپتانسیومتری نشان دهنده 4 ناحیه 1-انحلال فعال 2-مرحله قبل از پسیو شدن 3-شروع فرایند پسیو شدن و 4- پسیو شدن کامل برای نمونه های مس تجارتی و تنها ناحیه انحلال فعال برای مس خالص تحت شرایط آزمایش می باشد. بر این اساس یک مدل دو لایه ای شامل یک لایه با مایت الکتروشیمیایی (فیلم پسیو) و یک لایه با جذب فیزیکی (لایه لجن) بر روی سطح مشاهده شده است. در تحقیق حاضر تلاش گردید تا با استفاده از آنالیزهای SEM و EDS بر روی لایه لجن و همچنین فیلم پسیو نمونه های تجارتی مس، رابطه میان مورفولوژی لایه های سطحی و رفتار پسیو شدن مورد مطالعه قرار گیرد. نتایج حاصل نشان داد که تشکیل و پایداری فیلم های اکسیدی مس نقش بحرانی بر روی شروع و پیشرفت فرایند پسیو شدن ایفا می نماید. همین طور ساختار و تخلخل لایه لجن پایداری فیلم های اکسیدی را کنترل می نماید. نتایج حاصل از مطالعات XRD نشان دهنده حضور فازهای CuSO4 ،Ag2S ،Cu2Se ،CuSeO4 ،Cu2O ،CuFeS2 ، Cu2S بر روی سطح نمونه پسیو شده می باشد و با نتایج بالا مطابقت دارد.

Keywords:

پسیو شدن مس , پالایش الکتریکی , گالوانواستاتیک , مورفولوژی لایه های سطحی