بررسی مکانیزم رسوبدهی الکتروشیمیایی نانو ایر طلا در تمپلیت پلی کربنات
Publish place: 5th Nanotechnology Students Conference
Publish Year: 1388
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 1,967
This Paper With 9 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
NANOSC05_212
تاریخ نمایه سازی: 22 اسفند 1387
Abstract:
در این تحقیق فرآیند رسوبدهی الکتروشیمیایی نانو وایرهای طلا در تمپلت پلی کربناتی با حفرات 80 نانومتری در حمام آبی حاوی دی سیانورات پتاسیم مطالعه شده است. از منحنی های ولتامتری سیکلی، کرونوآمپرومتری و بررسیهای کرونوپتانسیومتری برای مطالعه مکانیزم های رسوبدهی استفاده شد. بررسی منحنی های ولتامتری نشان میدهند که رسوبدهی الکتروشیمیایی نانووایرها طلا در دانسیته جریانهای پایین بعلت حضور ترکیبات حاوی CN بر روی سطح و در دانسیته جریانهای بالا در اثر کاهش مستقیم Au(CN)2- به طلای فلزی صورت میگرد. با توجه به نمودارهای کرونوآمپرمتری مکانیزم جوانه زنی و رشد رسوبات از نوع لحظه ای سه بعدی بوده و رسوبدهی به طریقه دیفوزیونی کنترل میگردد. مقدار دانسیته جوانه های اولیه و مقدار ضریب دیفوزیون نیز محاسبه گردیده و مشاهده شد که ضریب دیفوزیون طلا با کاهش غلظت محلول کاهش یافته و دانسیته محلهای جوانه زنی با افزایش پتانسیل اضافی و کاهش غلظت محلول کاهش می یابد.مورفولوژی رسوبات نیز توسط میکروسکوپ SEM بررسی گردید.
Keywords:
Authors
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :