مطالعه پایداری و فاصله درون جداری نانولولههای دو جداره سیلیکون کارباید (0، 6)@( n ، 0) با روش vdW-DFT
Publish place: The Physics Society Of Iran، Vol: 18، Issue: 4
Publish Year: 1397
نوع سند: مقاله ژورنالی
زبان: Persian
View: 265
This Paper With 7 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
JR_PSI-18-4_018
تاریخ نمایه سازی: 3 اسفند 1399
Abstract:
در این پژوهش با استفاده از اصول اولیه مبتنی بر نظریه تابعی چگالی با در نظر گرفتن نیروهای واندروالس، پایداری و ساختار الکترونی نانولولههای دوجداره سیلیکون کارباید زیگزاگ (0، n)@ (0،6) شامل 17-11 n= مورد بررسی قرارگرفته است. با محاسبه انرژی تشکیل و انرژی پیوندی هر یک از نانولولهها، وجود یک نانولوله دو جداره با انرژی و فاصله درون جداری مطلوب به لحاظ پایداری در این دسته مشخص شده است. نتایج نشان میدهند نانولوله خارجی (13،0) مطلوبترین مزدوج برای نانولوله داخلی (6،0) با فاصله درون جداری حدود Å 53/3 میباشد. محاسبات ساختاری نشان میدهند که تمام نانولولههای مورد بررسی نیمرسانا هستند وگافهای انرژی آنها از تک جداره به دوجداره کاهش مییابند. همچنین با افزایش قطر نانولوله، گاف نواری آن افزایش مییابد و در پایدارترین نانولوله دو جداره مقدار آن حدود 216/0 الکترون ولت میباشد.
Keywords:
Authors
طیبه مولاروی
دانشکده فیزیک و مهندسی هستهای، دانشگاه صنعتی شاهرود، شاهرود
مهدی مطهرینژاد
دانشکده فیزیک و مهندسی هستهای، دانشگاه صنعتی شاهرود، شاهرود
سعید حسامی پیلهرود
دانشکده فیزیک و مهندسی هستهای، دانشگاه صنعتی شاهرود، شاهرود
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :