بررسی اثر ولتاژ بایاس بر ساختار و خواص پوشش TiN ایجاد شده به روش قوس کاتدی فیلتر شده (FCAD)
Publish place: 21st National Conference on Surface Engineering
Publish Year: 1399
Type: Conference paper
Language: Persian
View: 588
This Paper With 10 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- I'm the author of the paper
Export:
Document National Code:
ISSE21_009
Index date: 12 May 2021
بررسی اثر ولتاژ بایاس بر ساختار و خواص پوشش TiN ایجاد شده به روش قوس کاتدی فیلتر شده (FCAD) abstract
در این تحقیق جهت بهبود خواص سطحی فولاد ابزار سردکار DIN ۱.۲۰۶۷ ، پوشش TiN به روش رسوب دهیقوس کاتدی فیلتر شده (FCAD) بر روی فولاد لایه نشانی شد. ابتدا نمونه هایی از این فولاد با عملیات حرارتیسخت کاری شده و سپس نمونه ها در شرایط مختلف ولتاژ بایاس (۵۰ ، ۱۰۰ و ۱۵۰V) به مدت ۶۰ دقیقهپوشش دهی شدند. ساختار و خواص مکانیکی پوشش ها با استفاده از میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM)آنالیز شیمیایی (EDS)، آنالیز VDI و میکروسختی سنجی مورد ارزیابی قرار گرفت. نتایج SEM بیانگر کاهشدرشت ذرات در پوشش های ایجاد شده با روش قوس کاتدی فیلتر شده بود. افزایش ولتاژ بایاس از ۵۰ به ۱۰۰ و۱۵۰V منجربه کاهش میکروسختی پوشش از ۱۲۱۵ ویکرز به ۱۰۸۵ و ۱۱۴۰ ویکرز شد. همچنین افزایش ولتاژبایاس باعث افزایش سرعت یون ها به سمت زیرلایه شده که این موضوع سبب بهبود چسبندگی پوشش TiNشده است.
بررسی اثر ولتاژ بایاس بر ساختار و خواص پوشش TiN ایجاد شده به روش قوس کاتدی فیلتر شده (FCAD) Keywords:
بررسی اثر ولتاژ بایاس بر ساختار و خواص پوشش TiN ایجاد شده به روش قوس کاتدی فیلتر شده (FCAD) authors
محمدعلی بلوکی
تهران، دانشگاه صنعتی مالک اشتر (کارشناس ارشد مهندسی مواد)
سیدحجت اله حسینی
تهران، دانشگاه صنعتی مالک اشتر (استادیار)
محمدرضا ابراهیمی فردوئی
تهران، دانشگاه صنعتی مالک اشتر (کارشناس ارشد مهندسی مواد)