سیویلیکا را در شبکه های اجتماعی دنبال نمایید.

بررسی فرآیند پلیمریزاسیون پلاسمایی برای تولید لایه سیلیکاتی متخلخل

Publish Year: 1399
Type: Journal paper
Language: Persian
View: 435

This Paper With 14 Page And PDF Format Ready To Download

Export:

Link to this Paper:

Document National Code:

JR_IJSSE-16-45_004

Index date: 29 December 2021

بررسی فرآیند پلیمریزاسیون پلاسمایی برای تولید لایه سیلیکاتی متخلخل abstract

در این تحقیق، لایه سیلیکاتی فلوئوردار به روش پلیمریزاسیون پلاسمایی و با استفاده از دستگاه پلاسمایی فرکانس رادیویی تولید شده است. به منظور کاهش ضریب شکست لایه ها، تخلخل های ساختاری در لایه ایجاد شد. میزان ناخالصی، ضریب جذب اپتیکی، زبری سطح و میزان چگالی جریان تراوشی و آستانه میدان شکست لایه ها مورد بررسی قرار گرفتند. به منظور بررسی فرآیند پلیمریزاسیون پلاسمایی، نوع گاز فلوئوردار و فشار کاری و همچنین قرار دادن پایه برای بسترهای سیلیکونی مورد آزمایش قرار گرفتند. حالت های پیوند شیمیایی لایه ها و ریخت شناسی سطح لایه ها به ترتیب توسط طیف‎سنج تبدیل فوریه مادون قرمز و میکروسکوپ نیروی اتمی مورد بررسی قرار گرفت. علاوه بر این، مطالعه ضریب شکست و ضریب جذب لایه ها نیز توسط دستگاه بیضی سنجی طیفی انجام گرفت. نتایج نشان داد لایه سیلیکاتی فلوئوردار با خلوص بالا و تخلخل های ساختاری، دارای ضریب شکست فوق کم (۱.۱۷ و ۱.۰۹) و ثابت خاموشی کمتر از ۴-۱۰ است و افزایش فشار و همچنین قرار دادن پایه برای بستر ها موجب افزایش ناخالصی های آلی به ویژه پیوندهای کربنی و به موجب آن از بین رفتن تخلخل های ساختاری لایه شد که در مجموع منجر به افزایش ضریب شکست (۱.۳۹ و ۱.۳۷) و ثابت خاموشی (۰.۰۰۴ و ۰.۰۰۰۵) لایه ها شده است.

بررسی فرآیند پلیمریزاسیون پلاسمایی برای تولید لایه سیلیکاتی متخلخل Keywords:

بررسی فرآیند پلیمریزاسیون پلاسمایی برای تولید لایه سیلیکاتی متخلخل authors

مرضیه عباسی فیروزجاه

گروه علوم مهندسی، دانشکده مهندسی، دانشگاه فناوری های نوین سبزوار، سبزوار، ایران

بابک شکری

پژوهشکده لیزر و پلاسما، دانشگاه شهیدبهشتی تهران

مراجع و منابع این Paper:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :
J. Memisevic, V. Korampally, S. Gangopadhyay, S.A. Grant, Characterization of ...
S. G. Yoon, S. M. Kang, W. S. Jung, H. ...
S.-H. Jeong, J. Nishii, H.-R. Park, J.-K. Kim, B.-T. Lee, ...
S.-J. Jung, B.J. Kim, M. Shin, Low-refractive-index and high-transmittance silicon ...
H. Zhou, H.K. Kim, F.G. Shi, B. Zhao, Optical properties ...
S.T. Hwang, D.J. You, S.H. Kim, S. Lee, H.M. Lee, ...
V. Hody-Le Caër, E. De Chambrier, S. Mertin, M. Joly, ...
Y.C. Tsai, J. Shieh. Growing invisible silica nanowires on fused ...
مظفری نیا رضا، ارزیابی ضریب شکست نور در لایه های ...
M. R. Wang, Rusli, M. B. Yu, N. Babu, C. ...
F.J. Garcia-Garcia, J. Gil-Rostra, A. Terriza, J.C. González, J. Cotrino, ...
M.D. Barankin, T.S. Williams, E. Gonzalez, R.F. Hicks, Properties of ...
W.L. Lu, T.W. Kuo, C.H. Huang, N.F Wang, Y.Z. Tsai, ...
S. Yu, J.S. Lee, S. Nozaki, J. Cho, Microstructure developments ...
P. Kirsch, Modern fluoroorganic chemistry: synthesis, reactivity, applications (Wiley-VCH), p.۱ ...
X. Guo, J.E. Jakes, M.T. Nichols, S. Banna, Y. Nishi, ...
S.K. JangJean, C.P. Liu, Y.L. Wang, W.S. Hwang, W.T. Tseng, ...
V. Hody-Le Caër, E. De Chambrier, S. Mertin, M. Joly, ...
M. Abbasi-Firouzjah, B. Shokri, Deposition of high transparent and hard ...
M. Abbasi-Firouzjah, S.I. Hosseini, M. Shariat, B. Shokri, The effect ...
A.M. Mahajan, L.S. Patil, J.P. Bange, D.K. Gautam, Growth of ...
J. Schäfer, J. Hnilica, J. Šperka, A. Quade, V. Kudrle, ...
H. Zhang, Z. Guo, Q. Chen, X. Wang, Z. Wang, ...
Y.H. Kim, M.S. Hwang, H. J. Kim, Infrared spectroscopy study ...
D.W. Berreman, Infrared absorption at longitudinal optic frequency in cubic ...
S.C. Deshmukh, E.S. Aydil, Investigation of SiO۲ plasma enhanced chemical ...
P. Uznanski, B. Glebocki, A. Walkiewicz-Pietrzykowska, J. Zakrzewska, A.M. Wrobel, ...
J. W. Yi, Y. H. Lee, and B. Farouk, Low ...
T.K.S. Wong, B. Liu, B. Narayanan, V. Ligatchev, R. Kuma, ...
M. Klevenz, S. Wetzel, M. Moller, A. Pucci, Evaporation and ...
M.T. Kim, Deposition kinetics of silicon dioxide from tetraethylorthosilicate by ...
A. Fridman, L.A. Kennedy, Plasma Physics and Engineering (second edition), ...
R.T. Sanderson, Chemical Bonds Bond Energy, Academic Press, New York, ...
S. I. Hosseini, M. Sharifian, and B. Shokri, Single and ...
E.A. Haupfear, E.C. Olson, L.D. Schmidt, Kinetics of SiO۲ deposition ...
Q. Chen, Y. Zhang, E. Han, Y. Ge, SiO۲-like film ...
A. Barranco, J. Cotrino, F. Yubero, J.P. Espino´s, J. Ben´ıtez, ...
J. Gong, R. Dai, Z. Wang, C. Zhang, X. Yuan, ...
M. T. Othman, J. A. Lubguban, A. A. Lubguban, and ...
V. Ion, A. Andrei, M. Dinescu, N.D. Scarisoreanu, Optical Properties ...
P.F. Wang, S.J. Ding, W. Zhang, J.Y. Zhang, J. T. ...
W. C. Ee, K. Y. Cheong, Effects of annealing temperature ...
نمایش کامل مراجع