سیویلیکا را در شبکه های اجتماعی دنبال نمایید.

تاثیر غلظت و ضخامت آلاینده آلومینیوم بر خواص ساختاری، اپتیکی و الکتریکی لایه های نازک دی اکسید قلع آلاییده با آلومینیوم

Publish Year: 1397
Type: Journal paper
Language: Persian
View: 264

This Paper With 9 Page And PDF Format Ready To Download

Export:

Link to this Paper:

Document National Code:

JR_IJSSE-14-38_003

Index date: 3 January 2022

تاثیر غلظت و ضخامت آلاینده آلومینیوم بر خواص ساختاری، اپتیکی و الکتریکی لایه های نازک دی اکسید قلع آلاییده با آلومینیوم abstract

در این کار تجربی لایه­های نازک دی­اکسید قلع آلاییده با آلومینیوم با ترکیب­های مختلفی از ۵ تا ۱۰ درصد جرمی آلومینیوم و ۹۵ تا ۹۰ درصد جرمی دی­اکسید قلع بوسیله تبخیر با باریکه الکترونی بر روی زیرلایه­های شیشه­ای نهشته شدند. سپس تاثیر غلظت آلاینده آلومینیوم و ضخامت بر خواص الکتریکی، اپتیکی و ساختاری این لایه­ها بررسی شد. خواص این لایه­های نازک بوسیله پراش پرتو X، اسپکتروفوتومتر UV- VISو پروب چهارسوزنی بررسی شد. طیفXRD  بدست آمده بر حسب افزایش درصد ناخالصی نشان داد که همه لایه­ها جهت ترجیحی(۱۱۰) را نشان می­دهند و ساختار بس­بلوری دارند که با افزایش میزان ناخالصی اندازه دانه­ها کاهش یافته، تعداد و شدت پیک­های ظاهر شده کم شده و بلورینگی در این لایه­ها کاهش یافته است. همچنین با افزایش ضخامت لایه­ها، میزان شفافیت لایه­ها و مقاومت ویژه کاهش می­یابند، بنحوی که در مورد لایه­های با ۵/۷ % جرمی آلومینیوم، مقدار میانگین عبور لایه­ها از مقدار ۵/۸۸ % برای نمونه­ای با ضخامت ۲۵۰ نانومتر به مقدار ۳/۸۲ % برای نمونه­ای با ضخامت ۴۵۰ نانومتر کاهش می­یابد. همچنین مقاومت ویژه به کمترین مقدار خود یعنی  ۴-۱۰×۲۴۷/۵ اهم- سانتیمتر برای نمونه­ای با ضخامت ۴۵۰ نانومتر می­رسد.

تاثیر غلظت و ضخامت آلاینده آلومینیوم بر خواص ساختاری، اپتیکی و الکتریکی لایه های نازک دی اکسید قلع آلاییده با آلومینیوم Keywords:

لایه های نازک , دی اکسید قلع آلاییده با آلومینیوم , پراش پرتو ایکس , شفافیت اپتیکی , مقاومت ویژه

تاثیر غلظت و ضخامت آلاینده آلومینیوم بر خواص ساختاری، اپتیکی و الکتریکی لایه های نازک دی اکسید قلع آلاییده با آلومینیوم authors

بهاره آذروند حسن فرد

گروه فیزیک، دانشگاه پیام نور، صندوق پستی ۳۶۹۷-۱۹۳۹۵، تهران، ایران

خدیجه ابراهیمی اردی

گروه فیزیک، دانشگاه پیام نور، صندوق پستی ۳۶۹۷-۱۹۳۹۵، تهران، ایران

مراجع و منابع این Paper:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :
A. Aballe, M .Bethencourt, F. J. Botana, M. J. Cano ...
S. Sujatha lekshmy, L. V. Maneeshya, P.V. Thomas, K .Joy, ...
R. Dolbec, M. A. El Khakani, A. M. Serventi, M. ...
B. Mattias , D., Ulrike, The surface and materials science ...
C. Sevik, C. Bulutay, High dielectric constant and wide band ...
A. Dieguez, A. Romano-Rodriquz, J. R. Morante, U. Weimar, M. ...
C. Morales, H. Juárez, T. Díaz, Y. Matsumoto, E. Rosendo, ...
G.S.V. Coles, K.J. Gallagher, J. Watson, Fabrication and preliminary tests ...
A. A. Mousa–Bahia, G. S. V. Coles and M. J. ...
J. Watson, The tin oxide gas sensor and its applications, ...
K. Ihokura, J. Watson, The Stannic Oxide Gas Sensor, Principles ...
L. I. Maissel And R. Glang, Handbook of thin film ...
F. Fang, Y. Zhang, X. Wu, Q. Shao, Z. Xie, ...
Ch. Messaadi, M. Ghrib, H. Chenaina, M.Manso‑Silvan, H. Ezzaouia, Structural, ...
G. Sanon, R. Rup And A. Mansingh, Band-gap narrowing and ...
S.K. Sinha, S.K. Ray and I. Manna, Effect of Al ...
۱۷.N. A. Dahham, A. Esmaeel, N. A. Abed, Effect of ...
K. S. Sree Hasha, Principles of physical vapour deposition of ...
L. I. Maissel, R. Glang, Handbook of thin film Technology, ...
K. Tang, L. Wang, J. Zhang, W. Shi, Y. Xia, ...
Y. tang, Synthesis and characterization of tin oxide for thin ...
A. Santhosh Kumar , K.K. Nagaraja, H.S .Nagaraja, J.Mater,Investigation of ...
H. R., Fallah, M. Ghasemi, A. Hassanzadeh, The effect of ...
S. Sujatha Lekshmy. K. Joy, Conductivity in oxide thin films ...
V. Senthilkumar And P. Vickraman, Structural, optical and electrical studies ...
نمایش کامل مراجع