ساخت نانوسیلیکان متخلخل با تخلخلهای مختلف وبکارگیری آن به عنوان سنسور گاز N2
Publish Year: 1390
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 831
This Paper With 10 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
NCNN01_069
تاریخ نمایه سازی: 17 اردیبهشت 1391
Abstract:
دراین کار نمونه هایی از ویفر سیلیکان نوع P به روش آنودی سازی الکتروشیمیایی درالکترولیت شامل DMF و اسید HF و همچنین اتانول C2H5OH) و اسید HF متخلخل گردید تاثیر پارامترهایی همچون زمان آندی سازی چگالی جریان و غلظت الکترولیت برساختار تخلخل بررسی شده و تصویر sEM سیلیکان متخلخل نانو و میکروساختار آورده شده است همچنین رفتار الکتریکی لایه های سیلیکان متخلخل نانو و میکروساختار درحضور گاز N2 بررسی شده و می توان از آن به عنوان حسگر گازی استفاده کرد
Authors
معصومه مقدسی
دانشگاه تربیت معلم تهران گروه فیزیک
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :