بررسی تاثیر درصد اکسیژن بر ویژگی های ساختاری و نوری لایه های نازک اکسید تیتانیوم نهشته شده با روش کند و پاش مگنترونی واکنشی

لایه های نازک اکسید تیتانیوم با روش کند و پاش مگنترونی واکنشی تحت شرایط توان و فشار ثابت با درصدهای مختلف اکسیژن بر روی زیرلایه هایشیشه ای نهشته شدند. تاثیر درصد گاز واکنشی اکسیژن بر ویژگی های ساختاری و نوری لایه های نهشته شده با نسبت های مختلف (O۲/(Ar+O۲ بررسیشده است. ویژگی های نمونه ها با استفاده از پراکندگی اشعه ایکس، میکروسکوپ نیروی اتمی، میکروسکوپ الکترونی روبشی و اسپکتروسکوپی فرابنفش-مریی مشخص شده است. طرح های پراکندگی اشعه ایکس نشان می دهد که لایه های نهشته شده در دمای اتاق، آمورف هستند. آنالیز تصاویر میکروسکوپنیروی اتمی نشان می دهد که همه لایه ها، سطح صاف و یکنواختی دارند. تصاویر میکروسکوپ الکترونی روبشی نشان می دهد که تغییر درصد اکسیژن برمورفولوژی سطح نمونه ها تاثیر می گذارد و با افزایش درصد اکسیژن، ساختار دانه ای در سطح لایه ها مشاهده میشود. با استفاده از طیف UV-Vis، عبوراپتیکی، ضخامت و انرژی گاف نواری بررسی می شود که متوسط عبور همه نمونه ها در محدوده نور مریی، بالا است. همچنین مشاهده شده است که با افزایشدرصد اکسیژن، متوسط عبور اپتیکی کاهش می یابد و ضخامت لایه ها افزایش می یابد.