لایه نشانی سیلیکون به کمک دستگاه DC-PECVD
Publish place: Twelfth National Conference on Applied Research in Electrical, Computer and Medical Engineering
Publish Year: 1401
Type: Conference paper
Language: Persian
View: 790
This Paper With 10 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- I'm the author of the paper
Export:
Document National Code:
ECMECONF12_035
Index date: 26 July 2022
لایه نشانی سیلیکون به کمک دستگاه DC-PECVD abstract
با توسعه ی علم وفناوری، لایه های نازک، بیش از پیش اهمیت و ضرورت خود را در صنایع مختلف و پژوهشهای محققان نشان دادهاند. از طرفی دیگر، نقش باتری ها و بخصوص باتری های مدرن نظیر باتری یون- لیتیوم در سیستمهای مختلف بطور روز افزونی بیشتر شده است. در میان مواد مورد استفاده در آند باتری یون- لیتیوم، سیلیکون دارای جایگاه ویژهای میباشد چرا که ظرفیت ذخیره سازی باتری با استفاده از ماده سیلیکون حدود ۱۰ برابر گرافیت در وزن مساوی میباشد که این امر منجر به سبکتر شدن باتریهای لیتیومی میشود. به این ترتیب ساخت لایه های نازک سیلیکون دارای اهمیت خاص میباشد. در این مقاله، روی بستر مس با استفاده از دستگاه لایه نشانی بخار شیمیایی به کمک پلاسما ساختارهای میکرومتری از سیلیکون و ترکیبات دیگر، رشد داده شده است. مزیت اصلی این روش، انجام پروسه در دمای پایین و در محیطی عاری از هرگونه آلودگی است. بعلاوه از مایع سیلیکون تتراکلراید جهت لایه نشانی استفاده شد که خطرات آن در مقایسه با سایلن، به طور قابل ملاحظه ای کمتر است. مزایای استفاده از مس هم به عنوان زیرلایه، ارزان بودن، قابل دسترس بودن و هدایت الکتریکی بالای ان می باشد. لایه نشانی در دمای ۳۵۰ درجه ی سانتیگراد، فشار ۶۹۰ میلی تور و مدت زمان ۴ ساعت انجام شده است و نتایج ان در مقاله ارائه میشود.
لایه نشانی سیلیکون به کمک دستگاه DC-PECVD Keywords:
لایه نشانی سیلیکون به کمک دستگاه DC-PECVD authors
نادیا وجدانی
کارشناسی ارشد دانشگاه شهید بهشتی
محمدجواد شریفی
دانشیار دانشگاه شهید بهشتی