سیویلیکا را در شبکه های اجتماعی دنبال نمایید.

تاثیر درصد اکسیژن بر ویژگی های ساختاری، سطحی و نوری لایه های نازک آکسید تنگستن تهیه شده با روش کندوپاش مگنترونی واکنشی

Publish Year: 1401
Type: Conference paper
Language: Persian
View: 277

This Paper With 8 Page And PDF Format Ready To Download

Export:

Link to this Paper:

Document National Code:

SCCFSTS01_049

Index date: 15 February 2023

تاثیر درصد اکسیژن بر ویژگی های ساختاری، سطحی و نوری لایه های نازک آکسید تنگستن تهیه شده با روش کندوپاش مگنترونی واکنشی abstract

اکسید تنگستن به دلیل کاربرد در ساخت دستگاه های اپتوالکترونیک مورد توجه محققان قرار گرفته است. دراین مطالعه، ویژگی های ساختاری. سطحی و نوری لایه های نازک اکسید تنگستن تهیه شده با روش کندوپاشمگنترونی واکنشی بررسی شده است. نمونه های با درصدهای مختلف گاز واکنشی اکسیژن. تحت شرایط فشار((۲-)۲x۱۰ میلی بار) و توان (۲۰ وات) ثابت بر روی زیرلایه های شیشه ای و کوارتزی لایه نشانی شدند. طرح هایپراکندگی اشعه ایکس (XRD) نشان می دهد که همه ی نمونه های تهیه شده در دمای اتاق. آمورف هستند.مورفولوژی سطح لابه ها با استفاده از تصاویر میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM) و میکروسکوپ نیرویاتمی (AFM) بررسی شد. تصاویر SEM نشان می دهد که همه ی لابه های تهیه شده با درصدهای مختلفاکسیژن. مورفولوژی سطح بکنواخت و بدون ساختار دانه ای دارند. آنالیز تصاوبر AFM نشان می دهد کهلایه های بسیار صاف با متوسط زبری سطح کمتر از یک نانومتر تهیه شده اند و با افزایش درصد اکسیژن. زبریسطح لایه ها کاهش می بابد. برای به دست آوردن عبور نوری نمونه ها از طیف سنجی فرابنفش-مرتی (UV-Vis) استفاده شد. با افزایش درصد گاز اکسیژن, لایه های اکسیدی شفاف با متوسط عبور نوری بالا تبهیه شدهاست. لایه ی تهیه شده با کمترین درصد اکسیژن (۵%)، به فاز فلزی نزدیکتر بوده که دارای بیشترین زبریسطح (۰/۶۴۷ نانومتر). کمترین عبور نوری (۴۰/᷉ ) و انرژی گاف نواری (۲/۶۸ الکترون ولت) است. مقدارگازواکنشی اکسیژن در محدوده ی ۱۰%-۲۵% منجر به شکل گیری لایه های اکسیدی می شود و انرژی گاف نواریآن ها با افزایش درصد اکسیژن. روند کاهشی دارد.

تاثیر درصد اکسیژن بر ویژگی های ساختاری، سطحی و نوری لایه های نازک آکسید تنگستن تهیه شده با روش کندوپاش مگنترونی واکنشی Keywords:

اکسید تنگستن. کندوپاش مگنترونی , ویژگی های ساختاری و سطحی , انرژی گاف نواری

تاثیر درصد اکسیژن بر ویژگی های ساختاری، سطحی و نوری لایه های نازک آکسید تنگستن تهیه شده با روش کندوپاش مگنترونی واکنشی authors

سمانه جعفرپور

دانشجو، دانشکده فیزیک، دانشگاه تبریز، تبریز

زهرا عبدی رحمانی

دانشجو، دانشکده فیزیک، دانشگاه تبریز، تبریز

حمید نقش آرا

استاد، دانشکده فیزیک، دانشگاه تبریز، تبریز

مجتبی پرهیزکار

استاد، دانشکده فیزیک، دانشگاه تبریز، تبریز

مقاله فارسی "تاثیر درصد اکسیژن بر ویژگی های ساختاری، سطحی و نوری لایه های نازک آکسید تنگستن تهیه شده با روش کندوپاش مگنترونی واکنشی" توسط سمانه جعفرپور، دانشجو، دانشکده فیزیک، دانشگاه تبریز، تبریز؛ زهرا عبدی رحمانی، دانشجو، دانشکده فیزیک، دانشگاه تبریز، تبریز؛ حمید نقش آرا، استاد، دانشکده فیزیک، دانشگاه تبریز، تبریز؛ مجتبی پرهیزکار، استاد، دانشکده فیزیک، دانشگاه تبریز، تبریز نوشته شده و در سال 1401 پس از تایید کمیته علمی اولین کنفرانس بین المللی دانشجویان علوم پایه ایران پذیرفته شده است. کلمات کلیدی استفاده شده در این مقاله اکسید تنگستن. کندوپاش مگنترونی، ویژگی های ساختاری و سطحی، انرژی گاف نواری هستند. این مقاله در تاریخ 26 بهمن 1401 توسط سیویلیکا نمایه سازی و منتشر شده است و تاکنون 277 بار صفحه این مقاله مشاهده شده است. در چکیده این مقاله اشاره شده است که اکسید تنگستن به دلیل کاربرد در ساخت دستگاه های اپتوالکترونیک مورد توجه محققان قرار گرفته است. دراین مطالعه، ویژگی های ساختاری. سطحی و نوری لایه های نازک اکسید تنگستن تهیه شده با روش کندوپاشمگنترونی واکنشی بررسی شده است. نمونه های با درصدهای مختلف گاز واکنشی اکسیژن. تحت شرایط فشار((۲-)۲x۱۰ میلی بار) و توان (۲۰ وات) ثابت بر روی زیرلایه های ... . برای دانلود فایل کامل مقاله تاثیر درصد اکسیژن بر ویژگی های ساختاری، سطحی و نوری لایه های نازک آکسید تنگستن تهیه شده با روش کندوپاش مگنترونی واکنشی با 8 صفحه به فرمت PDF، میتوانید از طریق بخش "دانلود فایل کامل" اقدام نمایید.