لایه نشانی نانو پوشش شفاف آبگریز ضدیخ پا یه پلی دی متیل سیلوکسان به همراهسیلیکای اصلاح شده با هگزا دی متیل سیلازان

پژوهش حاضر به منظور تهیه لایه نازک ضد یخ، آبگریز و اپتیکی بر پایه پلی دیمتیل سیلوکسان PDMS انجام شد. بدین منظور ابتدا محلولی از نانو ذرات سیلیکای اصلاح شده به کمک پیش ماده های تترااتوکسی سیلان TEOS و هگزا دی متیل سیلازان HDMS استفاده شد. پس از پیرسازی محلول به مدت ۲۴ ساعت در دمای محیط به شکل سرباز، مقادیر مختلف آن به محلول PDMS اضافه شد. لایه نشانی نانو پوشش ضدیخ روی زیر لایه شیشه ای به روش غوطه وری انجام شد. لایه های نازک به دست آمده در آون و در دمای ۱۲۰ درجهسانتی گراد به مدت ۱ ساعت با نرخ ۲ درجه سانتی گراد بر دقیقه حرارت داده شدند. مقدار بهینه اصلاح شده نانو ذرات سیلیکا با HDMS، با استفاده از بررسی تاثیر مقادیر مختلف آ روی آبگریزی و شفافیت لایه های نازک با استفاده از دستگاه اندازه گیری زاویه تماس و طیف سنج نوری بررسی گردید. نتایج به دست آمده نشان داد نمونه پژشش دهی شده با PDMS همراه با ۶ میلی لیتر ذرات سیلیکا اصلاح شده با HDMS، منجر به افزایش عبور نور تا ۹۳ درصد و رسیدن به زاویه تماس ۱۰۰ درجه می شود. با بررسی نتایج آزمون طیف سنجی مادون قرمز با تبدیل فوریه FT-IR تشکیل گروه عاملی آبگریز متیل و کاهش اثر گروه آبدوست هیدروکسیل روی سطح تایید گردید. آزمون های خود تمیزشوندگی و یخ زدگی روی نموه بهینه انجام گرفت. آزمون یخ زدگی نشان داد که زمان مورد نیاز برای یخ زدگی کامل روی لایه نازک بر پایه PDMS اصلاح شده با ۶ میلی لیتر اصلاح شده نانو ذرات سیلیکا با HDMS بسیار طولانی تر از شیشه بدون پوشش و با پوشش PDMS است.

لایه نشانی نانو پوشش شفاف آبگریز ضدیخ پا یه پلی دی متیل سیلوکسان به همراهسیلیکای اصلاح شده با هگزا دی متیل سیلازان Keywords:

پوشش آبگریز , نانو پوشش اپتیکی و ضدیخ , پلی دی متیل سیلوکسا , نانو ذرات سیلیکای اصلاح شده