بررسی تاثیر دما و نرخ حرارت دهی عملیات آنیل بر بهبود خواص الکتریکی و نوری لایه نازک نانو ساختار اکسید ایندیم قلعITO)
Publish place: 1st International and 6th Joint Conference of Iranian Society of Metallurgical Engineers and the scientific community of Casting
Publish Year: 1391
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 660
This Paper With 10 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
IMES06_284
تاریخ نمایه سازی: 8 بهمن 1391
Abstract:
لایه نازک نانوساختار اکسید ایندیم قلعITO) با شفافیت بالا در محدوده نور مرئی و هدایت مناسب به روش لایه نشانی چرخشی تهیه شد. بدین منظور، محلول سل اولیه شامل محلول های کلرید ایندیم و کلرید قلع با روش لایه نشانی چرخشی بر روی زیر لایه با سرعت 3000 دور بر دقیقه نشانده شد. سپس لایه ایجاد شده در دمای 501° خشک شده و تحت عملیات آنیل در محدوده دمایی 300 تا 700° با نرخ حرارت دهی 2 و 5°C/min قرار گرفت. جهت بررسی لایه های نازک از پراش پرتو اشعهXRD) Xمیکروسکوپ الکترونی روبشی گسیل میدانیFESEM) روش مقاومت سنجی چهار نقطه ای و طیف سنجی جذب و نشر استفاده شد. موقعیت پیک ها در طیف های آنالیزXRD موید تشکیل فازهای کریستالی مکعبی بیکسبیتIn2O3و فاز کریستالی رومبوهدرالITO می باشد.
Keywords:
Authors
سعید محمدی
فارغ التحصیل کارشناسی ارشد، دانشکده مهندسی متالورژی و مواد ، پردیس دا
حسین عبدی زاده
دانشیار، دانشکده مهندسی متالورژی و مواد ، پردیس دانشکده های فنی، دان
محمدرضا گل وبستان فرد
دانشجوی دکتری، دانشکده مهندسی متالورژی و مواد ، پردیس دانشکده های فن
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :