الکتروانباشت فیلم های بس لایه ای Co-Cu/Cu و بررسی اثر پارامترهای رشد بر ساختار آن ها
Publish Year: 1390
Type: Journal paper
Language: Persian
View: 69
This Paper With 9 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- I'm the author of the paper
Export:
Document National Code:
JR_IJSSE-7-11_008
Index date: 1 November 2023
الکتروانباشت فیلم های بس لایه ای Co-Cu/Cu و بررسی اثر پارامترهای رشد بر ساختار آن ها abstract
در این تحقیق فیلم های بس لایه ای فلزی Co-Cu/Cu با زوج لایه های نانومتری و با استفاده از روش الکتروانباشت در محلولی حاوی سولفات مس و سولفات کبالت بر زیرلایه بس بلور Ti با بافت های قوی (۱۰۱) و (۱۰۳) و (۰۰۱) با مقادیر مختلف پارامترهای رشد مانند ولتاژ انباشت، ضخامت کل و دمای الکترولیت تهیه شدند. سپس نانو ساختار فیلم های تهیه شده توسط دستگاه پراش پرتویX و ریخت شناسی آن ها توسط میکروسکپ الکترونی روبشی مورد مطالعه قرار گرفتند. نتایج پراش X نمونه ها نشان داد که بس لایه ها دارای ساختار fcc با بافت قوی (۱۱۱) می باشند. تصاویر SEM نمایانگر رشد ستونی Cu در نمونه ها است. همچنین در بس لایه هایی که تحت ولتاژ انباشت Co منفی تری رشد نموده اند، اندازه دانه ها و ارتفاع ستون های Cu کاهش می یابد. با ازدیاد ضخامت کل اثر نا هماهنگی شبکه ای بین لابه و زیر لایه کمتر مشاهده گردید. در نتیجه با افزایش دمای الکترولیت اندازه دانه های سطحی بس لایه های تولید شده و هم چنین میزان ناخالصی اتم های S در این بس لایه ها افزایش نسبی دارند.
الکتروانباشت فیلم های بس لایه ای Co-Cu/Cu و بررسی اثر پارامترهای رشد بر ساختار آن ها Keywords: