رسوب لایه اتمی Atomic Layer Deposition
Publish place: The second international conference of computer engineering, electricity and technology
Publish Year: 1402
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 61
This Paper With 6 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
CELCONF02_021
تاریخ نمایه سازی: 26 اسفند 1402
Abstract:
رسوب گذاری لایه نازک به روش های مختلف انجام می گیرد که هر کدام از آنها کاربردهای مختلفی در صنعت دارد. در این مقاله به بررسی روشهای رسوب لایه اتمی ( ( ALD پرداخته شده است. همچنین ابزارهای مدلسازی و کاربردهای آنها را شرح میدهد. در ادامه ی این مطالعه، به بررس انواع و همچنین ویژگی ها، مزایا و کاربردهای روش رسوب لایه اتمی می پردازد.
Keywords:
Authors
سیدمحمد علوی
دانشیار دانشگاه جامع امام حسین علیه السلام
جلایر فرزام
دانشجوی کارشناسی ارشد دانشگاه جامع امام حسین علیه السلام