بررسی تاثیر دمای بازپخت حرارتی بر روی خواص ساختاری، مورفولوژیکی و نوری لایه های نازک اکسید نیکل تهیه شده به روش کندوپاش مغناطیسی واکنشی DC

در این پژوهش، لایه های نازک اکسید نیکل خالص(NiO) بر روی زیر لایه سیلیکان و کوارتز با روش کندوپاش مغناطیسی واکنشی DC انباشت شده اند و سپس در دماهای ۴۰۰، ۵۰۰ و ۶۰۰ درجه سانتی گراد بازپخت حرارتی شدند. برای بررسی خواص ساختاری و مورفولوژیکی و نوری نمونه ها از آنالیزهای پراش پرتو اشعه ایکس (XRD)، میکروسکوپ نیروی اتمی (AFM) و طیف سنج اسپکترومتر مرئی- ماوراء بنفش (UV-Visible) استفاده شده است. نتایج پراش پرتو اشعه ایکس (XRD) نشان داد که تمامی لایه های انباشت شده دارای ساختار مکعبی هستند و خواص ساختاری لایه ها با دمای بازپخت تغییر می کند. همچنین تصاویر مورفولوژی سطح لایه ها تحت تاثیر دمای بازپخت حرارتی می باشد. نتایج طیف سنج اسپکترومتر مرئی نشان می دهد با افزایش دمای بازپخت حرارتی طیف عبوری از لایه ها افزایش یافته است.

Keywords:

اکسید نیکل , بازپخت حرارتی , کندوپاش DC , خواص ساختاری