تجزیه فوتوکاتا لیستی تتراسایکلین توسط نانو کامپوزیت های روی اکسید و بیسموت اکسیبرماید

در این مقاله در ابتدا در مورد روش سنتز نانو میله های اکسید روی و سپس سنتز نانو کامپوزیت های روی اکسید وبیسموت اکسی برماید با روش Solvothermal بر روی بستر مش استیل ۴۰۰ برای تجزیه فوتوکاتالیستی آلاینده آنتی بیوتیک تتراسایکلین سنتز شدند. برای رسیدن به حالت بهینه سنتز این نانو کامپوزیت ها متغیر pH در سه مقدارمتفاوت ۴، ۷ و ۹ موردبررسی قرار گرفت. نمونه بهینه ZnO-BiOBr pH=۹ برای آزمایش های تخریب فوتوکاتالیستی آلاینده تتراسایکلین هم زیر نور مرئی و هم در زیر فرابنفش مورداستفاده قرار گرفت که با توجه به نتایج به دست آمده ازتجزیه فوتوکاتالیستی تتراسایکلین، نور فرابنفش با نرخ سرعت تخریب بیشتر در مقایسه با نور مرئی برای این فرآیند مناسب تر است. تجزیه وتحلیل طیف سنجی بازتابی منتشر DRS شکاف انرژیeV ۴.۳ را برای نانو کامپوزیت اکسید روی و بیسموت اکسی برماید نشان داد. انعطاف پذیری و سنتز آسان فوتوکاتالیست مذکور و همچنین بازیابی سریع از پساب تصفیه شده برای کاربردهای عملی امیدوارکننده است

Keywords:

فوتوکاتالیست , نیمه هادی , نانوکامپوزیت روی اکسید - بیسموت اکسی برماید , تتراسایکلین