پوشش های نانوساختار فوق سخت با روش رسوب دهی فیزیکی بخار

علی رغم کاربرد وسیعی که پوشش دهی به روش رسوب فیزیکی بخار در صنایع مختلف پیدا کرده است. همچنان یکی از مهمترینچالش ها دستیابی به پوشش فوق سخت به کمک این روش است. تاکنون تحقیقات متنوعی جهت رسیدن به این هدف صورت پذیرفتهاست. یکی از مهم ترین روشهایی که رسیدن به این هدف را تا حد زیادی ممکن کرده است ایجاد پوشش های نانوساختار یا نانوپوششمی باشد. بررسی های انجام گرفته بر روی نانوپوشش ها نشان می دهد که خواص آن ها در بسیاری موارد نسبت به پوشش های معمولیبهبود چشمگیری دارد. نانوپوشش ها در مقایسه با پوشش های میکرومتری از ضریب انبساط حرارتی، سختی و چقرمگی بالاتر و همچنینمقاومت بیشتر در برابر خوردگی، سایش و فرسایش برخوردار هستند. تاکنون عمده تحقیقات انجام شده بر روی نانوپوشش ها مربوط بهپوشش های با سختی بالا و فوق سخت بوده است. پوشش های فوق سخت پوشش هایی هستند که سختی آن ها بیشتر از ۴۰ گیگاپاسکال است. دستیابی به نانو پوشش به روش PVD نیاز به کنترل بسیار دقیق پارامترهای فرایند مانند دمای زیرلایه، سرعت لایه نشانی،فشار محفظه، شدت جریان قوس کاتدی، ولتاژ بایاس و غیره دارد بطوریکه برای هر پوشش خاص مقدار پارامترها متفاوت است. پوششهای نانوساختاری که سبب افزایش سختی به میزان چشمگیری می شوند شامل دو دسته ابرشبکه ها و نانوکامپوزیت ها می باشند. در اینتحقیق به معرفی این دو نوع از پوشش ها، خواص آنها و مکانیزم اثر آنها پرداخته می شود.

Keywords:

, PVD , نانوپوشش , پوشش فوق سخت , پوشش نانوساختار