اکسیداسیون حرارتی ساختار های سیلیکونی نا هموار دو بعدی
Publish place: The 8th National Conference of Applied Researches in Electrical, Mechanical and Mechatronics Engineering
Publish Year: 1403
Type: Conference paper
Language: Persian
View: 169
This Paper With 10 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- I'm the author of the paper
Export:
Document National Code:
ELEMECHCONF08_135
Index date: 8 July 2024
اکسیداسیون حرارتی ساختار های سیلیکونی نا هموار دو بعدی abstract
با ادامه کوچک سازی و توسعه دستگاه های جدید، اکسیداسیون غیریکنواخته سه بعدی ساختارهای سیلیکونی اهمیت بیشتری پیدا کرده است. با این حال، درک این پدیده به دلیل داده های آزمایشگاهی ناکافی و مشکلات در شبیه سازی عددی دوبعدی موانعی داشته است. این مقاله روش تجربی نوآورانه ای را ارائه می دهد که اطلاعات جامعی در مورد اکسیداسیون ساختارهای سیلیکونی استوانه ای با شعاع کنترل شده فراهم می آورد. نتایج به صورت کمی نشان می دهند که اکسیداسیون سطوح منحنی سیلیکون در دماهای پایین و منحنی های تیز کاهش می یابد، و کاهش بیشتری بر ساختارهای مقعر نسبت به ساختارهای کروی مشاهده می شود. این یافته ها توسط یک مدل فیزیکی تبیین می شوند که بر اثرات استرس بر پارامترهای رشد اکسید تمرکز دارد.
اکسیداسیون حرارتی ساختار های سیلیکونی نا هموار دو بعدی Keywords:
کلمات کلیدی : اکسیداسیون سیلیکون , اکسیداسیون دو بعدی , اکسیداسیون غیریکنواخت , پارامترهای رشد اکسید , سطوح منحنی سیلیکون , تنش در اکسیداسیون , نازک شدن اکسید دروازه , اکسیداسیون محلی (LOCOS) , پلی سیلیکون
اکسیداسیون حرارتی ساختار های سیلیکونی نا هموار دو بعدی authors
سید محمد مهدی شاه زیدی
۱- گروه الکترونیک ، دانشکده مهندسی برق ، دانشگاه جامع امام حسین ، تهران ، ایران
سید محمد علوی
۲- دانشیار گروه الکترونیک ، دانشگاه جامع امام حسین ، تهران ، ایران
