سیویلیکا را در شبکه های اجتماعی دنبال نمایید.

تخریب فوتوکاتالیستی متیل اورانژ به عنوان یک آلاینده رنگی با استفاده از نانوساختار تیتانیوم دی اکسید مغناطیسی Fe۳O۴/Al۲O۳/TiO۲

Publish Year: 1399
Type: Journal paper
Language: Persian
View: 87

This Paper With 14 Page And PDF Format Ready To Download

Export:

Link to this Paper:

Document National Code:

JR_CHEM-15-54_024

Index date: 16 September 2024

تخریب فوتوکاتالیستی متیل اورانژ به عنوان یک آلاینده رنگی با استفاده از نانوساختار تیتانیوم دی اکسید مغناطیسی Fe۳O۴/Al۲O۳/TiO۲ abstract

استفاده از تکنولوژی فتوکاتالیستی با استفاده از نانوساختارهایی با پایه اکسید تیتانیم در سالهای اخیر به عنوان یک استراتژی کاربردی در صنایع بکارگرفته شده است. در این راستا و در تحقیق حاضر، نانوساختار Fe۳O۴/Al۲O۳/TiO۲ با ساختار هسته / پوسته/ پوسته سنتز و توسط آنالیزهای FTIR و SEM مشخصه یابی و مورفولوژی آن های شناسایی شد. پس از اطمینان از سنتز موفقیت آمیز نانوساختار تیتانیوم دی اکسید مغناطیسی از آن در تخریب فتوکاتالیستی آلاینده رنگی متیل اورانژ تحت تابش نور فرابنفش استفاده و تاثیر پارامترهای مختلف بر بازده حدف، با هدف بهینه سازی پارامترهای موثر آزمایش های فتوکاتالیستی، مورد مطالعه قرار گرفته است. نتایج نشان دهنده بازده حذف ۱۰۰ درصد برای متیل اورانژ در شرایط بهینه شامل حضور ۳/۳ گرم بر لیتر از فتوکاتالیست در محلول رنگی با ۷=pH و غلظت اولیه متیل اورانژ ppm ۳۰ در مدت ۶۰ دقیقه است. همچنین برای نانوساختار بدون لایه میانی حدود ۴۴ درصد بازده فتوکاتالیستی در شرایط مشابه بدست آمد. در نتیجه، نانوساختار Fe۳O۴/Al۲O۳/TiO۲ رفتار فتوکاتالیستی بهتری نسبت به نانوساختار Fe۳O۴ /TiO۲ با ساختار هسته/پوسته از خود نشان داده است.

تخریب فوتوکاتالیستی متیل اورانژ به عنوان یک آلاینده رنگی با استفاده از نانوساختار تیتانیوم دی اکسید مغناطیسی Fe۳O۴/Al۲O۳/TiO۲ Keywords:

تخریب فوتوکاتالیستی متیل اورانژ به عنوان یک آلاینده رنگی با استفاده از نانوساختار تیتانیوم دی اکسید مغناطیسی Fe۳O۴/Al۲O۳/TiO۲ authors

سمانه محمدنژاد

گروه مهندسی شیمی، دانشگاه صنعتی قوچان، قوچان، ایران

علی آیتی

گروه مهندسی شیمی، دانشگاه صنعتی قوچان، قوچان، ایران

علی احمدپور

گروه مهندسی شیمی-دانشکده مهندسی- دانشگاه فردوسی مشهد- مشهد-ایران

حسن کریمی مله

دانشگاه تحصیلات تکمیلی صنعتی فناوری پیشرفته کرمان

مراجع و منابع این Paper:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :
Y. L.Pang, S. Lim, H.C. Ong, and W.T. Chong, ULTRASONICS ...
J. F. Guo, B. Ma, A. Yin, K. Fan, and ...
J. Su, Y. Zhang, S. Xu, S. Wang, H. Ding, ...
J. Lan, Research on Chemical Intermediates. ۴۱ (۲۰۱۳( ...
A. Habibi-Yangjeh, M. Shekofteh-Gohari, Separation and Purification Technology. ۱۸۴ (۲۰۱۷) ...
W. Fu, H. Yang, M. Li, L. Chang, Q. Yu, ...
W. Jiang, X. Zhang, X. Gong, F. Yan, and Z. ...
Y. Ao, J. Xu, D. Fu, L. Ba, and C. ...
B. Tanhaei, A. Ayati, M. Lahtinen, B.M. Vaziri, and M. ...
A. Ayati, A. Ahmadpour, F.F. Bamoharram, M. Mänttäri, and M. ...
J. Q.Ma, S.-B. Guo, X.-H. Guo, and H.-G. Ge, Nanoparticle ...
Y. Fan, C. Ma, W. Li, and Y. Yin, Materials ...
L. Hongfei, J. Shengfu, Z. Yuanyuan, L. Ming, and Y. ...
N. Abbas, G.N. Shao, S.M. Imran, M.S. Haider, and H.T. ...
J. Liu, S.Z. Qiao, Q.H. Hu, and G.Q. Lu, Small. ...
J. Joo, Y. Ye, D. Kim, J. Lee, and S. ...
Q. Zhang, G. Meng, J. Wu, D. Li, and Z. ...
D. Chen, C. Liu, S. Chen, W. Shen, X. Luo, ...
G. Liu, F. He, J. Zhang, L. Li, F. Li, ...
C. Zhang, H. Chen, M. Ma, and Z. Yang, Journal ...
X. Huang, G. Wang, M. Yang, W. Guo, and H. ...
A.Vazquez, T. Lopez, R. Gomez, Bokhimi, A. Morales, and O. ...
L. Gomathi Devi, S. Girish Kumar, K. Mohan Reddy, and ...
A. Fallah Shojaei, A. Shams-Nateri, and M. Ghomashpasand, Superlattices and ...
D. Rajamanickam, M. Shanthi, Spectrochimica Acta Part A: Molecular and ...
Z.Q. Li, H.L. Wang, L.Y. Zi, J.J. Zhang, and Y.S. ...
نمایش کامل مراجع