بررسی عوامل مؤثر بر مورفولوژی و رفتار پلاریزاسیون آندی پوشش های محلول جامد اکسید RuO2 و TiO2 بر روی تیتانیوم خالص
Publish place: 8th Congress of the Iranian Metallurgical Society
Publish Year: 1383
Type: Conference paper
Language: Persian
View: 1,825
This Paper With 10 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- I'm the author of the paper
Export:
Document National Code:
CIMS08_048
Index date: 12 December 2006
بررسی عوامل مؤثر بر مورفولوژی و رفتار پلاریزاسیون آندی پوشش های محلول جامد اکسید RuO2 و TiO2 بر روی تیتانیوم خالص abstract
پوشش دی اکسید روتنیوم RuO2 همراه با اکسید یک و یا چندین فلز نجیب بر روی فلز پایـ ه تیتـانیوم خـالص تجاری به دلیل پایداری، قابلیت هدایت الکتریکی بـالا، ولتـاژ اضـافی پـایین و مقاومـت الکتریکـی مـشابه فلـزات خالص حائز اهمیت است و در فرایندهای الکترولیز مثل فرایند تولید گاز ک لر مورد استفاده قرار می گیـرد . در ایـن تحقیق چگونگی ایجاد پوشش های فوق الذکر به روش برس زدن و بر اساس انجام واکنش های تجز یه حرارتی بر روی تیتانیوم خالص مطالعه شد . اعمال پوشش روی نمونه ها در یـک، دو، چهـار، شـش و هـشت مرحلـه صـورت گرفت و در 180 Cْ به مدت 20 دقیقه خـشک گردید نـد . در ادامـه کـار، ن مونـه هـا در 450 Cْ بـه مـدت 20 دقیقـه حرارت داده شدند و در نهایـ ت دردماهـای 450 Cْ ، 650Cْ و 850 Cْ بـه مـدت 20 و 50 سـاعت عملیـات حرارتـی شدند . اثر پارامترهای آماده سازی سطح، درجه حرارت و زمان عملیات حرارتی، تعداد لایه ها و ترکیـب شـیمیایی بر مورفولوژی و رفتار پلاریزاسیو ن آندی در محلول 5 مولار کلرید سدیم بررسی گردید ند و نتایج حاصـل نـشان داد کـــه پوشـــش 6 مرحلـــه ای حـــرارت داده شـــده در 450 Cْ بـــه مـــدت 20 ســـاعت بـــا ترکیـــب شـــیمیایی TiO2 / RuO2 =80/20 دارای کیفیت مطلوب بوده و ضخامت آن20 میکرون مـی باشـد و حـداقل ولتـاژ اضـافی آزاد سازی گاز کلر و حداکثر پایداری و استحکام چسبندگی را دارا می باشد . ساختار پوشش شبیه گل رس ترک دار کویری بوده و از محلول جامد RuO2 و TiO2 حاوی ترک های ریـز تـشکیل شـده اسـت . ایـن نـوع سـاختار دارای خواص کاتالیزوری مطلوبی جهت کاربرد در فرایند های الکترولیزی می باشد .
بررسی عوامل مؤثر بر مورفولوژی و رفتار پلاریزاسیون آندی پوشش های محلول جامد اکسید RuO2 و TiO2 بر روی تیتانیوم خالص Keywords:
بررسی عوامل مؤثر بر مورفولوژی و رفتار پلاریزاسیون آندی پوشش های محلول جامد اکسید RuO2 و TiO2 بر روی تیتانیوم خالص authors
مردعلی یوسف پور
دانشجوی دکتری دانشگاه صنعتی شریف، دانشکده مهندسی و علم مواد
عبداله افشار
دانشیار دانشگاه صنعتی شریف، دانشکده مهندسی و علم مواد
محمد قربانی
دانشگاه صنعتی شریف، دانشکده مهندسی و علم مواد
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :