رشد لایه نانو کامپوزیت HAp-ZrO2-TiO2 بر روی زیر پایه تیتانیمی به روش هیبریدی EPD/MAO

در پژوهش حاضر به منظور افزا یش قدرت اتصال ΗΑpبه زیرلایه تیتانیمی، لا یه ی واسطTiO2به روش MAOبر رو یTiرشد داده شد . سپس جهت یافتن شر ایط به ینه ی پا یدارساز ی سوسپانس یونHAp/ZrO2در اتانول، اثر افزودن الکترولیت ها و دیسپرزنت های مختلف بر پا یداری سوسپان سیون ها یΗΑp اتانول وZrO2اتانول بررسی شد . مشاهده شد که سوسپانسیونZrO و 2 ΗΑp در pH=4یدار است . در روش EPD با در نظر گرفتن زمان ثابت 1 دقیقه، اثر تغییر ولتاژ بر کیفیت پوشش ها مورد مطالعه قرار گرفت . نمونه هادر دو دما ی 1100 و 1300 درجه سانتی گراد ز ینتر ش د و پس از بررس ی مورفولوژ ی سطح پوشش ها توسط SEMولتاژ 50 ولت و دما ی 1300 درجه سانت ی گراد به عنوان شرایط بهینه یEPD و ز ینترینگانتخاب شد. به منظور بررسی ترکیب شیمیایی و فازهای پوشش ها، آنالیزEDS و XRDانجام شد.