ساخت نانوذرات اکسید تنگستن به روش تخلیه قوس الکتریکی در محیط آب
Publish place: Iranian Physics Conference 1386
Publish Year: 1386
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 2,286
متن کامل این Paper منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل Paper (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
IPC86_070
تاریخ نمایه سازی: 20 دی 1385
Abstract:
نانوذرات اکسید تنگستن به روش تخلیه قوس الکتریکی در محیط آب دو بار یونیزه ساخته شده اند . نتایج آنالیز پراکندگی نور (DLS) نمونه ها بیانگر تشکیل ذراتی با اندازه 30 nm در جریان قوس 125 A است و با افزایش جریان قوس، اندازه ذرات به دست آمده بزرگتر شده و توزیع آنها نیز گسترده تر می گردد . تصاویر میکروسکوپ (AFM) نشان می ده ند که با افزایش جریان تخلیه قوس الکتریکی اندازه نانوذرات نیز بزرگ می شوند . تصویر میکروسکوپ نیروی اتمی (SEM) الکترونی روبشی نانوذرات نشانده شده بر روی زیر لایه سیلیکن نیز با نتایج آنالیزSEM و DLS سازگار است . طیف پراکندگی اشعه ایکس (XRD) و طیف سنجی اشعه ایکس (XPS) نمونه ها نشان دهنده تشکیل فاز تری اکسید تنگستن و وضعیت شیمیایی WO3 بر روی سطح نانوذرات است.
Authors
علی اکبر اشکاران
پژوهشکده علوم و فناوری نانو، دانشگاه صنعتی شریف
اعظم ایرجی زاد
پژوهشکده علوم و فناوری نانو، دانشگاه صنعتی شریف، دانشکده فیزیک، دانش
محمدمهدی احدیان
پژوهشکده علوم و فناوری نانو، دانشگاه صنعتی شریف
سیداحمد مهدوی اردکانی
دانشکده صنعت هواپیمایی کشوری، تهران