لیتوگرافی پروبی روبشی شیمیایی مکانیکی (MC-SPL) در ابعاد نانومتری بر روی لایه ماسک فوتورزیست
Publish place: 2nd Nanotechnology Student Conference
Publish Year: 1386
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 2,415
This Paper With 5 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
NANOSC02_267
تاریخ نمایه سازی: 27 دی 1385
Abstract:
در این تحقیق ابتدا نانو لیتگرافی برروی لایه ماسک فوتورزیست که روی بستر LiTaO3 لایه نشانی شده با ایجاد حفره هایی با پارامترهای مختلف بررسی مینماییم . سپس روش لیتوگرافی پروبی روبشی مکانیکی شیمیایی (mechano- chemical scanning probe lithography) بررسی AFM الگوهای پیچیده تری بوسیله لیتوگرافی نیروی مستقیم Al/SiO2/Si میشود که در آن بر روی لایه ماسک لایه نشانی شده بر روی چند لایه ایجاد میشود . سپس ویفر را بوسیله محلول اسید فسفریک اچ میگردد و نانو ساختارهای آلومنیوم ایجاد میگردد . این تشکیل نانو ساختارها گام مهمی به
سمت یاخت قطعات نانومتری است .
Authors
محمد عبدالاحد
دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف
امید اخوان
دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف
علیرضا مشفق
دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :