نانولیتوگرافی برروی لایه پلیمری بوسیله AFM و بررسی اثر نیروی سوزن میکروسکوپ برروی کیفیت الگوها
Publish place: 8th Conference on Condensed Matter
Publish Year: 1385
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 2,272
متن کامل این Paper منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل Paper (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
CMC08_113
تاریخ نمایه سازی: 3 اسفند 1385
Abstract:
در این کار پژوهشی با استفاده از دستگاه میکروسکوپ نیروی اتمی (AFM) الگوهایی بروی لایه ماسک پلیمر فوتورزیست که برروی بستر LiTaO3 بروش لایه نشانی لایه نشانی گشته است،ایجاد گردید . پلیمر فوتورزیست به عنوان لایه ماسک در تکنولوژی ساخت قطعات میکرو الکترونیک کاربرد دارد . در (spin coating)چرخشی برروی لایه ماسک ایجاد گردید،همچنین اثر افزایش نیروی اعمال شده از طرف AFM نانومتر بوسیله نوک سوزن میکروسکوپ 20 تا 5 این فرایند الگوهایی در ابعاد نوک سوزن برروی عمق و کیفیت الگوها بررسی گردید .
Authors
محمد عبدالاحد
دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف، تهران
امید اخوان
دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف، تهران
سودابه واثقی نیا
دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف، تهران
علیرضا مشفق
دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف، تهران، پژوهشکده علوم و فناوری نان
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :