نانولیتوگرافی برروی لایه پلیمری بوسیله AFM و بررسی اثر نیروی سوزن میکروسکوپ برروی کیفیت الگوها

Publish Year: 1385
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 2,272

متن کامل این Paper منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل Paper (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.

  • Certificate
  • من نویسنده این مقاله هستم

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این Paper:

شناسه ملی سند علمی:

CMC08_113

تاریخ نمایه سازی: 3 اسفند 1385

Abstract:

در این کار پژوهشی با استفاده از دستگاه میکروسکوپ نیروی اتمی (AFM) الگوهایی بروی لایه ماسک پلیمر فوتورزیست که برروی بستر LiTaO3 بروش لایه نشانی لایه نشانی گشته است،ایجاد گردید . پلیمر فوتورزیست به عنوان لایه ماسک در تکنولوژی ساخت قطعات میکرو الکترونیک کاربرد دارد . در (spin coating)چرخشی برروی لایه ماسک ایجاد گردید،همچنین اثر افزایش نیروی اعمال شده از طرف AFM نانومتر بوسیله نوک سوزن میکروسکوپ 20 تا 5 این فرایند الگوهایی در ابعاد نوک سوزن برروی عمق و کیفیت الگوها بررسی گردید .

Authors

محمد عبدالاحد

دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف، تهران

امید اخوان

دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف، تهران

سودابه واثقی نیا

دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف، تهران

علیرضا مشفق

دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف، تهران، پژوهشکده علوم و فناوری نان

مراجع و منابع این Paper:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :
  • S.Zankovych, T.Haffmann , J.Seekamp , J-U Bruch and C M ...
  • H.Schiff , J.Gobrecht , C.Padesta _ L .J.Heyderman _ Micro ...
  • G.Y. Liu, S. Xu, Y.L. Qian, Acc. Chem. Res. 33 ...
  • S.Gwo, J. Phys. Chem. Solids 62 (2001) 1673. ...
  • I. Fernandez- Cuesta, X. Borrise and F. P erez-Murano, N ...
  • S. Kassavetis , K. Mitsakakis, S. Logothetidis, Materials Science and ...
  • R.D. Piner, J. Zhu, F. Xu, H. Seunghun, C.A. Mirkin, ...
  • H.D. Fonseca Filho, M.H.P. Maur1 cio, C.R. Ponciano, R. Prioli, ...
  • نمایش کامل مراجع