رشد بلورهای لایه ای نیکل سولفید شش گوشی به روش انتقال بخار شیمیایی و بررسی خواص ترابردی آنها
Publish place: 8th Conference on Condensed Matter
Publish Year: 1385
Type: Conference paper
Language: Persian
View: 1,814
متن کامل این Paper منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل Paper (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دانلود نمایند.
- Certificate
- I'm the author of the paper
Export:
Document National Code:
CMC08_131
Index date: 22 February 2007
رشد بلورهای لایه ای نیکل سولفید شش گوشی به روش انتقال بخار شیمیایی و بررسی خواص ترابردی آنها abstract
برای رشد بلور های NiS در این کار تجربی از روش انتقال بخار شیمیایی استفاده شد . برخی از خواص ترابردی نمونه های رشدیافته از قبیل مشخصه های I−V و ρ −T و ضریب ثابت هال نیز مطالعه شده و چگالی حامل های بار در نمونه ها برآورد گردید . بررسی وابستگی دمایی مقاومت ویژه بیانگر این واقعیت است که گذار MD در بلور های رشد یافته اتفاق می افتد . این بررسی ها نشان می دهند که بلور های رشد یافته به روش انتقال بخار شیمیایی انحراف کمی از بلور استوکیومتری کامل دارند . همچنین دمای گذار بلور ها نیز وابسته به زمان رشد، دمای منبع و میزان استوکیومتری بلور است .
رشد بلورهای لایه ای نیکل سولفید شش گوشی به روش انتقال بخار شیمیایی و بررسی خواص ترابردی آنها authors
حسن بیدادی
گروه حالت جامد و الکترونیک، دانشکده فیزیک دانشگاه تبریز
محمدجواد فرخی
گروه حالت جامد و الکترونیک، دانشکده فیزیک دانشگاه تبریز
فرامرز هادیان
گروه حالت جامد و الکترونیک، دانشکده فیزیک دانشگاه تبریز
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :