تاثیردمای دانه دارکردن پایه بر مورفولوژی، سرعت لایه نشانی و بازده الکترولس مس روی شیشه

Publish Year: 1393
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 902

This Paper With 8 Page And PDF Format Ready To Download

  • Certificate
  • من نویسنده این مقاله هستم

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این Paper:

شناسه ملی سند علمی:

NANOG01_091

تاریخ نمایه سازی: 12 دی 1393

Abstract:

در این تحقیق برای دانه دار کردن پایه شیشه ای از فلز مس بجای پالادیوم در بازه دمایی ؟ تا ؟ و در مدت زمان 15 الی 45 دقیقه به روش شیمیایی استفاده شد. با نشاندن دانه های مس بر روی پایه شیشه شرایط برای اکسایش هیدرازین در محیطی عاری از کاتالیست خارجی مانند پالدیوم جهت واکنش خود کاتالیزوری الکترولس مس فراهم گردید. محلول شیمیایی شامل سولفات مس پنج آبه به عنوان منبع مس ، هیدرازین به عنوان احیا کننده و آمونیاک به عنوان کمپلکس کننده و تنظیم کننده PH می باشد. تاثیر دما در مدت نیم ساعت دانه داریازی بر سرعت لایه نشانی و راندمان پوشش سطح بررسی شد. نتایج حاصله بیانگر بهینه بودن ساختار فیلم بدست آمده با دانه دار کردن پایه در دمای ؟ ، در محلولی شامل سولفات مس با غلظت 44 میلی مولار و هیدرازین با غلظت 24 میلی مولار و PH برابر با 1405 می باشد . مقاومت فیلم بدست آمده با میانگین گیری اندازه گیری از 5 نقطه متفاوت از فیلم نازک مس به ضخامت تقریبی 500nm برابر با 7*6-^10 W.cm بدست آمده است . بررسی خواص مورفولوژیکی و الکتریکی لایه ها به ترتیب با استفاده از میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM) و اندازه گیری مقاومت سطحی به روش Four point probe بررسی شدند.

Authors

نسیم نوبری

دانشجوی دکتری فیزیک حالت جامد دانشگاه صنعتی ارومیه

مهدی بهبودنیا

دانشیار فیزیک دانشگاه صنعتی ارومیه

رامین ملکی عسگر آباد

استادیار شیمی، جهاد دانشگاهی آذربایجان غربی، ارومیه

مراجع و منابع این Paper:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :
  • S hacham-D iamand, Y., Dubin, V., & Angyal, M. (1995). ...
  • Yabuki, A., & Arriffin, N. (2010). Electrical conductivity of copper ...
  • Cui, X., Hutt, D. A., & Conway, P. P. (2012). ...
  • Choi, K. K., & Rhee, S. W. (2001). Chemical vapor ...
  • Knisley, T. J., Ariyasena, T. C., Sajavaara, T., Saly, M. ...
  • Craig, S., & Harding, G. L. (1981). Effects of argon ...
  • Mallory, G. O., & Hajdu, J. B. (Eds.). (1990). Electroless ...
  • Cui, X., Bhatt, D., Hutt, D. A., Williams, K., & ...
  • Su, W., Yao, L., Yang, F., Li, P., Chen, J., ...
  • Yoshiki, H., Alexandruk, V., Hashimoto, K., & Fujishima, A. (1994). ...
  • Yeung, K. L., Christiansen, S. C., & Varma, A. (1999). ...
  • Cheng, Y. S., & Yeung, K. L. (2001). Effects of ...
  • نمایش کامل مراجع