سیویلیکا را در شبکه های اجتماعی دنبال نمایید.

مطالعه مکانیزم بازدارندگی فیلم های خود مجموعه ساز شیف بازهای N,N'-Ethylen-bis(salicylidenimine) و N,N'-ortho-Phenylen-bis(salicylidenimine) روی مس در محیط کلریدی در دمای محیط

Publish Year: 1384
Type: Conference paper
Language: Persian
View: 1,824

This Paper With 15 Page And PDF Format Ready To Download

Export:

Link to this Paper:

Document National Code:

INCC09_030

Index date: 9 August 2007

مطالعه مکانیزم بازدارندگی فیلم های خود مجموعه ساز شیف بازهای N,N'-Ethylen-bis(salicylidenimine) و N,N'-ortho-Phenylen-bis(salicylidenimine) روی مس در محیط کلریدی در دمای محیط abstract

خواص بازدارندگی شیف بازهای N,N'-Ethylen-bis(salicylidenimine) وN,N'-ortho-Phenylen-bis(salicylidenimine) که به صورت لایه های خودمجموعه ساز بر روی سطح الکترود مسی اعمال شده بودند با استفاده از طیف نگاری امپدانس الکتروشیمیایی در محیط خورندة 0.88M NaCl مورد بررسی قرار گرفت و مدار معادل الکتریکی سیستم، با استفاده از نمودارهای نایکوئیست و بد - فاز شبیه سازی شد . پارامترهای حاصل نشان داد که افزایش غلظت بازدارنده در محلول الکلی حاوی شیف باز، علاوه بر افزایش مقاومت انتقال بار، کاهش ظرفیت لایة دوگانه و ظرفیت لایة خودمجموعه ساز را نیز به دنبال دارد و در نتیجه راندمان بازدارندگی با افزایش غلظت بهبود می یابد . ٢٣ رسم شدند و مشخص شد که هر دو بازدارنده از ایزوترم o C همچنین، ایزوترمهای جذب نیز در دمای جذب لانگمور تبعیت می کنند .

مطالعه مکانیزم بازدارندگی فیلم های خود مجموعه ساز شیف بازهای N,N'-Ethylen-bis(salicylidenimine) و N,N'-ortho-Phenylen-bis(salicylidenimine) روی مس در محیط کلریدی در دمای محیط Keywords:

مطالعه مکانیزم بازدارندگی فیلم های خود مجموعه ساز شیف بازهای N,N'-Ethylen-bis(salicylidenimine) و N,N'-ortho-Phenylen-bis(salicylidenimine) روی مس در محیط کلریدی در دمای محیط authors

مریم احتشام زاده

دانشجوی دکتری بخش مهندسی مواد، دانشکده فنی دانشگاه تربیت مدرس

تقی شهرابی فراهانی

دانشیار بخش مهندسی مواد، دانشکده فنی دانشگاه تربیت مدرس

میرقاسم حسینی

استادیار دانشکده شیمی، دانشگاه تبریز

مقاله فارسی "مطالعه مکانیزم بازدارندگی فیلم های خود مجموعه ساز شیف بازهای N,N'-Ethylen-bis(salicylidenimine) و N,N'-ortho-Phenylen-bis(salicylidenimine) روی مس در محیط کلریدی در دمای محیط" توسط مریم احتشام زاده، دانشجوی دکتری بخش مهندسی مواد، دانشکده فنی دانشگاه تربیت مدرس؛ تقی شهرابی فراهانی، دانشیار بخش مهندسی مواد، دانشکده فنی دانشگاه تربیت مدرس؛ میرقاسم حسینی، استادیار دانشکده شیمی، دانشگاه تبریز نوشته شده و در سال 1384 پس از تایید کمیته علمی نهمین کنگره ملی خوردگی ایران پذیرفته شده است. کلمات کلیدی استفاده شده در این مقاله بازدارنده؛ شیف باز؛ مس؛ امپدانس AC ؛ فیلم های خود مجموعه ساز؛ محیط کلریدی هستند. این مقاله در تاریخ 18 مرداد 1386 توسط سیویلیکا نمایه سازی و منتشر شده است و تاکنون 1824 بار صفحه این مقاله مشاهده شده است. در چکیده این مقاله اشاره شده است که خواص بازدارندگی شیف بازهای N,N'-Ethylen-bis(salicylidenimine) وN,N'-ortho-Phenylen-bis(salicylidenimine) که به صورت لایه های خودمجموعه ساز بر روی سطح الکترود مسی اعمال شده بودند با استفاده از طیف نگاری امپدانس الکتروشیمیایی در محیط خورندة 0.88M NaCl مورد بررسی قرار گرفت و مدار معادل الکتریکی سیستم، با استفاده از نمودارهای نایکوئیست و بد - فاز شبیه سازی شد . پارامترهای حاصل نشان داد ... . برای دانلود فایل کامل مقاله مطالعه مکانیزم بازدارندگی فیلم های خود مجموعه ساز شیف بازهای N,N'-Ethylen-bis(salicylidenimine) و N,N'-ortho-Phenylen-bis(salicylidenimine) روی مس در محیط کلریدی در دمای محیط با 15 صفحه به فرمت PDF، میتوانید از طریق بخش "دانلود فایل کامل" اقدام نمایید.