مکانیسم تعامل و رفتار رشد سیلیسن بر روی زیر لایه

سیلیسن یک تک لایه از اتم های سیلیکون است که در یک شبکه لانه زنبوری قرار گرفته است ، بیشترین توجه را بخاطر خواص الکترونیکی برجسته اش به خود جلب کرده است. اخیرا با ساختارهای موفقیت آمیز سیلیسن روی چندین سطوح فلزی مختلف ، گام بزرگی بسوی استفاده از سیلیسن در ابزار میکروالکترونیک در آینده برداشته است در این طرح برای برنامه های کاربردی سیلیسن ، دو موضوع مهم باید مورد توجه قرار گیرد : 1چگونگی بهبود کیفیت سیلیسن-2 چگونگی حفظ خواص الکترونیکی فوق العاده سیلیسناین دو مسئله را باید با درک عمیق تاثیر زیر لایه در سیلیسن برطرف کرد.در اینجا بصورت سیستماتیک تاثیر زیر لایه در ساختار اتمی و ویژگی های الکترونیکی ورق سیلیسن و همچنین رفتار رشد سیلیسن روی سطح نقره را بررسی می کنیم.که هم برای ساخت و هم برای کاربردهای سیلیسنمهم هستند

Keywords:

اکسیداسیون , مخروط دیراک , نقص نقطه ای , پراکندگی خطی , زیرلایه , لایه همبافته