بررسی اثر PH و دما بر روی حذف نیکل II توسط نانو کامپوزیت TIO2-AG-CHITOSAN در پساب صنعتی

Publish Year: 1394
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 549

متن کامل این Paper منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل Paper (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.

  • Certificate
  • من نویسنده این مقاله هستم

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این Paper:

شناسه ملی سند علمی:

OGPCONF02_044

تاریخ نمایه سازی: 12 تیر 1395

Abstract:

در این تحقیق بررسی اثر فتوکاتالیتیکی کامپوزیت TIO2-AG-CHITOSAN بر روی حذف یون نیکل II در پساب صنعتی در حضور اشعه ماورا بنفش پیشنهاد شده است اثر پارامترهای عملیاتی موثر بر فرایند حذف شامل Ph و دما بررسی شد نتایج نشان داد که سیستم TIO2-AG-CHITOSAN/uv قادر به حذف مقدار قابل توجهی فلز نیکل از پساب صنعتی است مطالعه اثر pH نشان داد که محیط های بازی نقش موثری در حذف فلز نیکل دارند همچنین بررسی اثر دما در فرایند حذف نشان داد که تغیر دما تاثیر منفی در راندمان حذف دارند

Authors

عمار پناهی فر

دانشجوی کارشناسی ارشد

شهین حیدری ارجلو

استاد راهنما

مراجع و منابع این Paper:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :
  • T.K.sarma , A . Chattopadhyay , J . phys _ ...
  • A.Sugunan , J.Dutta , J . Physi , Seie & ...
  • J. Dutta , H . Hofman , Ency. Nanose & ...
  • نمایش کامل مراجع