رفتار خوردگی لایه نازک آلیاژ حافظه دار NiTi در محلول رینگر
Publish Year: 1386
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 1,396
This Paper With 15 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
SCMEMI07_009
تاریخ نمایه سازی: 13 اردیبهشت 1387
Abstract:
آلیاژ حافظه دار NiTi دارای خصوصیات منحصر به فردی نسبت به آلیاژهای دیگر چون حافظه داری و سوپرالاستیسیته می باشد که باعث کاربرد زیاد این آلیاژ در علم مهندسی پزشکی برای تولید ابزارها، استنتها، کاشتنی ها و سیمهای ارتودنسی و ک اربرد ویژه آنها در سیستمهای میکرو الکترومکانیکی در کاربردهای بیولوژیکی (BioMEMS) می باشد.هدف از انجام این تحقیق به دست آوردن رفتار خوردگی آلیاژ حافظه دا ر نایتینول که به صورت لایه نازک تهیه شده است، می باشد . برای این منظور به روش پلاریزاسیون پتانسیودینامیکی سیکلی و طیف نگاری امپدانس الکتروشیمیایی در محلول محلول رینگر به عنوان یک محلول شبیه سازی شده بدن تستهای الکتروشیمیایی انجام شد . نتایج آزمایش ها نشان می دهد که نمونه های لایه نازک با گذشت زمان با تشکیل فیلم اکسیدی تا چندین برابر نرخ خوردگی را کاهش می دهند . همچنین خوردگی حفره دار شدن تا پتانسیلهای بالا نیز مشاهده نشد که نشانگر مقاومت بالای آن نسبت به خوردگی موضعی می باشد.
Keywords:
نایتینول , پلاریزاسیو ن سیکلی , خوردگی , محلول شبیه سازی شده بدن , فیلم اکسیدی , طیف نگاری امپدانس الکتروشیمیایی
Authors
احسان صائب نوری
دانشجوی دکترای مهندسی مواد - خوردگی و حفاظت
محمدتقی شهرابی فراهانی
دانشیار دانشگاه تربیت مدرس، گروه خوردگی سهراب سنجابی، استادیار دانشگ
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :