اثر بازپخت بر ساختار لایه های نازک فاز آناتاز و روتیل TiO2
Publish place: 10th Iranian Seminar on Surface Engineering
Publish Year: 1388
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 2,171
This Paper With 7 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
ISSE10_099
تاریخ نمایه سازی: 1 فروردین 1388
Abstract:
لایه های نازک دی اکسید تیتانیوم به روش الکتروشیمیایی در حمام استون و ید تهیه شدند. مکانیزم الکتروانباشت شامل دو پروسه است: ابتدا اکسیداسیون Ti درحضور آب و استون صورت میگیرد و در اثر حضور یون های ید خوردگی TiO2 روی آند رخ می دهد. کاتیون های +TiO2 روی آند رخ می دهد. کاتیون های TiO2+ روی سطح Cu به عنوان کاتد انباشت می شوند. بعد از پخت لایه های نازک TiO2 تشکیل شد. مورفولوژی فیلم ها وابسته به ضخامت آنها است که می تواند توسط ولتاژ بکار رفته و زمان انباشت کنترل گردد.
Keywords:
Authors
ایرج کاظمی نژاد
گروه فیزیک دانشگاه شهید چمران اهواز
منصور فربد
گروه فیزیک دانشگاه شهید چمران اهواز
مژگان محسنی راد
گروه فیزیک، دانشگاه آزاد اسلامی واحد علوم و تحقیقات اهواز
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :