بررسی خاصیت خود- تمیز کنندگی لایه نازک پوشش اکسید تیتانیم بر روی سطح چینی بهداشتی

توسعه روش ها و محصولات آنتی باکتریالی و آسیب های ناشی از میکرو ارگانیسم ها، امروزه یک مساله بهداشتی بسیارمهم می باشد. از آنجا که فتوکاتالیست های اکسید تینانیم دارای قاب لیت اکسیداسیون بسیار بالایی می باشند، آن ها می توانند مواد آ لی را براحتی تجزیه کنند و درنها یت باکتری ها را از بین ببرند. در این تحقیق، خاصیت آنتی باکتری الی اکسید تیتانیم فتو کاتالیک، که ذرات نقره به روش رسوب دهی نوری بر روی سطح آن رسوب داده شد هاند، بررسی شده است. نمونه های لعاب خورد ه و پخته شده در دما ی 1200 درجه سانتیگراد پوشش داده شده بوسیله محلول سوسپانسیون TiO2 در دمای تا 980 درجه سانتیگراد کلسینه گردیده، سپس بوسیله یون های نقره رسوب دهی نوری شد. آنالیز XRD TiO2 در این محدوده دما یی، نشان دهنده ترکیبی از فازها ی آناتاز و روتا یل بود . میزان فاز روتا یل با افزا یش دما ی کلسیناسیون افزایش یافت. اثر دما ی کلسیناسیون بر خاصیت آنتی باکتریالی TiO2 توسط آزمون آنتی باکتریال E.Coli مورد بررسی قرارگرفت نتایج حاصل آن XRD و آزمون آنتی باکتریال نشان می دهد که خاصیت آنتی باکتری الی شدیداً تحت تا ثیر میزان آناتاز در لایه پوشش می باشد.