اصلاح غشاهای نانوفیلتراسیون پلی اترسولفونی با استفاده از سیلیکا پرکربوکسیلیک اسید پوشش داده شده روی نانوذرات مغناطیسی به منظور تصفیه پساب نساجی
Publish place: 2nd seminar of Iran applied chemistry
Publish Year: 1396
Type: Conference paper
Language: Persian
View: 571
This Paper With 5 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- I'm the author of the paper
Export:
Document National Code:
IACS02_221
Index date: 17 August 2018
اصلاح غشاهای نانوفیلتراسیون پلی اترسولفونی با استفاده از سیلیکا پرکربوکسیلیک اسید پوشش داده شده روی نانوذرات مغناطیسی به منظور تصفیه پساب نساجی abstract
در این تحقیق، نانوذره سیلیکا پرکربوکسیلیک اسید پوشش داده شده روی نانوذرات مغناطیسی (SCMNPs-COOOH) ساخته شد و برای بهبود کیفیت غشاهای پلی اترسولفونی استفاده شد. این نانوذره به دلیل برخورداری از گروه عاملی پرکربوکسیلیک اسید می تواند خواص سطحی غشا را بهبود ببخشد. غشاهایی با غلظت های مختلف از نانوذره ساخته شد و عملکرد غشاهای اصلاح شده با اندازه گیری شار عبوری از غشاها و میزان پس زنی رنگهای مختلف بررسی شد. نتایج آنالیز SEM نشان داد که مورفولوژی غشا تغییر نامطلوبی نداشت و تخلخل غشا کمی افزایش یافت. حضور نانوذرات تا غلظت بهینه ( wt% 0/5 ) موجب افزایش شار آب و کاهش میزان گرفتگی )افزایش نسبت بازیابی غشا( شد. اما غلظت های بیشتر موجب کاهش عملکرد غشا به دلیل کاهش تخلخل و مسدود کردن حفرات گردید. عملکرد نانوفیتراسیون غشاها توانایی بالای آنها برای حذف رنگ از پساب رنگی را نشان داد.
اصلاح غشاهای نانوفیلتراسیون پلی اترسولفونی با استفاده از سیلیکا پرکربوکسیلیک اسید پوشش داده شده روی نانوذرات مغناطیسی به منظور تصفیه پساب نساجی Keywords:
اصلاح غشاهای نانوفیلتراسیون پلی اترسولفونی با استفاده از سیلیکا پرکربوکسیلیک اسید پوشش داده شده روی نانوذرات مغناطیسی به منظور تصفیه پساب نساجی authors
سهراب خورشیدی
گروه شیمی کاربردی، دانشکده شیمی، دانشگاه خوارزمی، تهران
وحید وطن پور
گروه شیمی کاربردی، دانشکده شیمی، دانشگاه خوارزمی، تهران