سیویلیکا را در شبکه های اجتماعی دنبال نمایید.

طراحی و شبیه سازی ترانزیستور اثر میدان با کانال مبتنی بر نانوذره فلزی

Publish Year: 1397
Type: Conference paper
Language: Persian
View: 624

This Paper With 13 Page And PDF Format Ready To Download

Export:

Link to this Paper:

Document National Code:

MNTECH01_130

Index date: 14 December 2018

طراحی و شبیه سازی ترانزیستور اثر میدان با کانال مبتنی بر نانوذره فلزی abstract

کوچک سازی ترانزیستورها، مشکلات الکتریکی و گرمایی زیادی را از قبیل اثرات کانال کوتاه، اثرات حامل های داغ،خودگرمایی و کاهش موبیلیتی ترانزیستور را بوجود خواهد آورد. بنابراین در ساختارهای ارایه شده در این مقاله سعی بر آن شده تا با مهندسی ناخالصی کانال، لایه ی گرافن و نانو ذرات فلزی، توزیع سیلیسیم کانال، تا حد ممکن مشکلات ترانزیستورهای کانال کوتاه را بهبود بخشیم. قسمت مرکزی این نانونوار به عنوان گیت ترانزیستور در نظر گرفته می شود. با این مهندسی ساختار، جریان درین به مقدار قابل ملاحظه ای افزایش مییابد. فیزیک MOS با استفاده از تحلیل های کلاسیک و کوانتومی که در حالت کلاسیک با حل معادله ی پواسون-بولتزمن یا معادله ی پواسون-فرمی-دیراک و در حالت کوانتومی با حل معادله ی پواسون-شرودینگر شبیه سازی انجام شده است. بررسی چگونگی تشکیل کانال، خازن فرکانس پایین، توزیع پتانسیل و مقدار ولتاژ آستانه با هر دو تحلیل برای هر دو ساختار MOS شبیه سازی شده است. به خاطر تقارن نوار انرژی رسانش و ظرفیت در گرافن، تونل زنی بین-نواری به راحتی صورت گرفته جریان خروجی بزرگی از مرتبه جریان ساختار میکروآمپر حاصل میکند. همچنین در این ساختار، اثرات گسستگی ترازهای انرژی در کانال محدود شده توسط سدهای در محل اتصال با سورس و درین، باعث تونل زنی تشدیدی از میان کانال میشود و جریان نوسان کننده با ولتاژ گیت اعمالی به دست میدهد. همچنین در یک اندازه شعاع نانو ذره مشاهده میشود که با کاهش فاصله بین نانوذره شاهد افزایش در جریان درین خواهیم بود. به دلیل وجود نقاط کوانتومی در لایه فعال باعث رسیدن تحرک بالاتر از 30 سانتی مترمربع بر ولت ثانیه است. شکاف باند وابسته به اندازه و اتصال انرژی اکسیتون کوچک و بازده کوانتومی بالا از دیگر اثرات مفید نقاط کوانتومی در افزاره میباشد

طراحی و شبیه سازی ترانزیستور اثر میدان با کانال مبتنی بر نانوذره فلزی Keywords:

طراحی و شبیه سازی ترانزیستور اثر میدان با کانال مبتنی بر نانوذره فلزی authors

اصغر عبدی

گروه برق دانشکده مهندسی برق، دانشگاه آزاد اسلامی واحد تبریز، تبریز، ایران.

حسن رسولی سقای

هیات علمی گروه برق الکترونیک، دانشگاه آزاد اسلامی واحد تبریز، تبریز، ایران.

مقاله فارسی "طراحی و شبیه سازی ترانزیستور اثر میدان با کانال مبتنی بر نانوذره فلزی" توسط اصغر عبدی، گروه برق دانشکده مهندسی برق، دانشگاه آزاد اسلامی واحد تبریز، تبریز، ایران.؛ حسن رسولی سقای، هیات علمی گروه برق الکترونیک، دانشگاه آزاد اسلامی واحد تبریز، تبریز، ایران. نوشته شده و در سال 1397 پس از تایید کمیته علمی اولین کنفرانس ملی میکرو نانو فناوری پذیرفته شده است. کلمات کلیدی استفاده شده در این مقاله ماسفت، بهبود جریان، نانو ذره، لایه گرافن، لومریکال هستند. این مقاله در تاریخ 23 آذر 1397 توسط سیویلیکا نمایه سازی و منتشر شده است و تاکنون 624 بار صفحه این مقاله مشاهده شده است. در چکیده این مقاله اشاره شده است که کوچک سازی ترانزیستورها، مشکلات الکتریکی و گرمایی زیادی را از قبیل اثرات کانال کوتاه، اثرات حامل های داغ،خودگرمایی و کاهش موبیلیتی ترانزیستور را بوجود خواهد آورد. بنابراین در ساختارهای ارایه شده در این مقاله سعی بر آن شده تا با مهندسی ناخالصی کانال، لایه ی گرافن و نانو ذرات فلزی، توزیع سیلیسیم کانال، تا حد ممکن مشکلات ترانزیستورهای کانال کوتاه ... . برای دانلود فایل کامل مقاله طراحی و شبیه سازی ترانزیستور اثر میدان با کانال مبتنی بر نانوذره فلزی با 13 صفحه به فرمت PDF، میتوانید از طریق بخش "دانلود فایل کامل" اقدام نمایید.