تاثیر فرایند آنودایزینگ الکتروشیمیایی در فرایند های ترکیبی آنودایزینگ الکتروشیمیایی و اکسیداسیون حرارتی بر مورفولوژی لایه اکسیدی تشکیل شده

در این تحقیق فرایند های ترکیبی اکسیداسیون حرارتی و آنودایزینگ الکتروشیمیایی جهت ایجاد لایه های اکسیدی استفاده شده است. فرایند اکسیداسیون حرارتی در درجه حرارتهای 500 درجه سانتی گراد تا 950 درجه سانتی گراد در شرایط نرمال اتمسفری و فرایند آنودایزینگ الکتروشیمیایی در ولتاژهای 43 ولت ، 60 ولت و 65 ولت مورد بررسی قرار گرفت. تکنیک های میکروسکپ الکترونی روبشی SEM پرتونگاری اشعه XRD) X ) و تخلخل سنجی جهت بررسی ضخامت لایه مورفولوژی سطح ، چسبندگی لایه به زیر لایه و میزان تخلخل لایه اکسیدی مورد بررسی قرار گرفت. نتایج نشان داد که سطوح اصلاح شده با فرایند اکسیداسیون حرارتی بدنبال آنودایزینگ الکتروشیمیایی ویژگیهای بهتری نسبت به سطوحی که ابتدا فرایند آنودایزینگ الکتروشیمیایی بر روی آنها انجام شده و سپس تحت اکسیداسیون حرارتی قرار گرفتند، نشان دادند زیرا در این حالت لایه اکسیدی ضخیم تر بوده و نیز چسبندگی بیشتری به زیر لایه دارد. .حضور لایه آنودایزینگ الکتروشیمیایی منجر به افزایش چسبندگی لایه اکسیدی تشکیل شده در فرایند اکسیداسیون حرارتی نمی گردد. تشکیل لایه در درجه حرارت های بالا منجر به تشکیل دانه های درشت تر و کاملتر اکسید می گردد. بعلاوه در دماهای بالاتر حجم تخلخل افزایش می یابد. لایه اکسیدی تشکیل شده بر روی آلیاژ تیتیانیوم در طی فرایند های اکسیداسیون حرارتی و آنودایزینگ الکتروشیمیایی با رنگهای مختلفی پوشیده میشود.