تعیین مشخصه های اپتیکی لایه های نازک هنگام فرایند لایه گذاری در خلاء بدون اندازه گیری مستقیم ضرایب بازتاب یا عبور نور از نمونه

در این مقاله مشخصه های اپتیکی لایه های نازک در حین فرایند لایه نشانی در خلا بوسیله یک روش نسبتا ساد و اندازه گیری می شود. در این روش پیشنهادی با استفاده از نسبت، مقدار سیگنال کمینه ضریب عبور (T) به مقدار بیشینه آن (7) یعنی = = Gt از طریق روابط فرتل بدون اندازه گیری مستقیم ضریبه عبور می توان دیگر کمیتهای مورد نیاز از قبیل ضریب شکست ماده و یا ضریب بازتاب در فصل مشترک لایه - زیر لایه را بدست آورد. این روش برای تعیین مشخصه های اپتیکی مواد Na AIF ، PDF ، MgF3 ، Zns و As S انجام گردید. نتایج حاصل با نتایج روش طیف نورسنجی مقایسه شد و سازگاری خوبی تا دو رقم اعشار بدست آمد. کاربرد این روش برای ساخت سیستمهای چند لا یهای حساس به نور ارایه می شود.