اثر مهار کننده، زمان، محیط و آلایش با کبالت روی گاف انرژی نقاط کوانتمی اکسید روی تولید شده با روش شیمیایی مرطوب
Publish place: Iranian Physics Conference 1388
Publish Year: 1388
Type: Conference paper
Language: Persian
View: 1,130
متن کامل این Paper منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل Paper (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دانلود نمایند.
- Certificate
- I'm the author of the paper
Export:
Document National Code:
IPC88_379
Index date: 18 January 2010
اثر مهار کننده، زمان، محیط و آلایش با کبالت روی گاف انرژی نقاط کوانتمی اکسید روی تولید شده با روش شیمیایی مرطوب abstract
در این پژوهش نانوذرات اکسید روی با اندازه 2 تا 3 نانومتر به عنوان نقاط کوانتمی تولید شد و برای بررسی اثر محدوده کوانتمی از آنالیز جذبی UV-Vis استفاده گردید. بیناب جذبی نقاط کوانتمی تولید شده باتغییر غلظت مهار کننده، زمان، محیط و درصد آلایش با کبالت بدست آورده شد. با توجه به اینکه لبه جذب این نانوذرات با گاف انرژی ارتباط دارد با محاسبه گاف انرژی می توان اندازه ذرات را محاسبه و تحلیل نمود.
اثر مهار کننده، زمان، محیط و آلایش با کبالت روی گاف انرژی نقاط کوانتمی اکسید روی تولید شده با روش شیمیایی مرطوب authors
علی فلاح زاده
مرکز تحقیقات فیزیک پلاسما،دانشگاه آزاد اسلامی واحد علوم و تحقیقات ته
محمد حسن یوسفی
گروه پژوهشی فناوری نانو، دانشگاه صنعتی مالک اشتر ، شاهین شهر
محمدرضا ابوالحسنی
گروه فیزیک،دانشگاه تربیت مدرس تهران